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立式真空石墨化爐可用于導(dǎo)熱材料（PI膜）的高溫石墨化處理，與配套的碳化爐使用，能有效的降低產(chǎn)品的人工成本和原材料成本以及提高產(chǎn)能，特別適用于卷材的生產(chǎn)的PI膜生產(chǎn)線。
石墨化是指非石墨質(zhì)炭經(jīng)℃以上的熱處理,主要因物理變化使六角碳原子平面網(wǎng)狀層堆疊結(jié)構(gòu)完善發(fā)展,轉(zhuǎn)變成具有石墨三維規(guī)則有序結(jié)構(gòu)的石墨質(zhì)炭。在高溫下容易轉(zhuǎn)化成石墨的無(wú)定形碳稱為易石墨化炭或稱為可石墨化炭。
高溫法提純的原理是，利用石墨中雜質(zhì)的沸點(diǎn)比石墨的沸點(diǎn)低，當(dāng)溫度升高到大于雜質(zhì)的沸點(diǎn)時(shí)，雜質(zhì)就會(huì)蒸發(fā)掉，進(jìn)而達(dá)到除雜的目的。在隔絕空氣的情況下，隨著溫度的升高，石油焦會(huì)進(jìn)行如下的反應(yīng)。在溫度小于1000℃時(shí)，原料中的吸附物及易分解的無(wú)機(jī)物會(huì)發(fā)生分解反應(yīng)，首先被排除掉。隨著溫度的繼續(xù)升高，一些不揮發(fā)的氧化物開(kāi)始發(fā)生反應(yīng)，析出的氣體成分將朝著CO體積比增大的方向發(fā)展。
在高溫法中C還起到了還原的作用，其中氧化鐵會(huì)先發(fā)生氧化還原反應(yīng)，當(dāng)溫度升高到1600℃時(shí)，SiO2及CaO開(kāi)始發(fā)生還原反應(yīng)，在溫度繼續(xù)升高的時(shí)候，AI，O3及MgO發(fā)生還原反應(yīng)。而被還原的金屬一部分將蒸發(fā)掉，一部分會(huì)同C發(fā)生反應(yīng)而生成碳化物，被蒸發(fā)掉。實(shí)際上，當(dāng)溫度達(dá)到2200℃時(shí)，絕大多數(shù)雜質(zhì)都可以被除去，但是當(dāng)石墨品質(zhì)要求較高時(shí)，還需要繼續(xù)提高溫度。高溫法提純的關(guān)鍵是，只要達(dá)到需求的溫度，并不要求物料在高溫下長(zhǎng)時(shí)間的停留，因?yàn)槭徒沟念w粒較小，所含的雜質(zhì)并不多，只要溫度達(dá)標(biāo)，雜質(zhì)可快速蒸發(fā)掉。高溫提純法要求溫度達(dá)到2650℃以上，甚至2800~3000℃。
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