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光刻是使用曝光將設(shè)計的掩模圖案轉(zhuǎn)移到基板的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為實驗室研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機提供良好的基板適應(yīng)性，可夾持的標準尺寸基板最大直徑為150mm。該設(shè)備提供多種曝光方式，包括真空、軟接觸、硬接觸等，可實現(xiàn)鍵合對準、納米壓印、微接觸密封等多種功能。
1、穩(wěn)定的納米分辨率；
2、大面積全場曝光，無需拼接；
3、自由度不受限制，不影響厚膠和表面翹曲；
4、雙工作模式；
5、全息光刻模式：周期性納米結(jié)構(gòu)；
6、掩模對準光刻模式：任何微米結(jié)構(gòu)；
7、簡化的曝光工藝可實現(xiàn)一鍵式曝光；
8、靈活的定制解決方案。
URE-2000/35型紫外光刻機同類產(chǎn)品的優(yōu)異輸出強度，出色的光束均勻性：3%的可用孔徑，更長的弧光燈使用壽命：高達30000次曝光，即時啟動，無需超凈室，內(nèi)置凈化系統(tǒng)可以使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無需主動冷卻和外部冷卻，綠色技術(shù)：高光能轉(zhuǎn)換率（EVU僅為0.02%），節(jié)能省電；傳統(tǒng)UV加工會存在以上問題，光刻操作幾分鐘即可完成，維護簡單。
URE-2000/35型紫外光刻機廣泛應(yīng)用于半導體光刻工藝、光波導、光柵、MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極管（LED）芯片制造、顯示面板LCD、光電器件、納米壓印和電子封裝。它的使用須知如下：
1、不要頻繁開關(guān)汞燈；
2、水銀燈剛開機需要預(yù)熱一段時間；
3、檢查氮氣。CDA壓力必須為0.6MPa，N2壓力必須為0.4MPa。
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