等離子體清洗的原理與超聲波不同,當艙內(nèi)接近真空時,打開射頻電源,此時氣體分子電離,產(chǎn)生等離子體,伴隨輝光放電現(xiàn)象,等離子體在電場作用下加速,從而在電場作用下高速運動,對物體表面造成物理碰撞。等離子體的能量足以去除各種污染物,氧離子可以將有機污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣排出艙外。
等離子清洗不需要其他原料,只需空氣即可滿足要求,使用方便無污染,
同時,它比超聲波清洗更多的優(yōu)勢在于,等離子體不僅可以清洗表面,更重要的是可以提高表面活性,等離子體與物體表面的化學反應可以產(chǎn)生活性化學基團,這些化學基團活性高,應用范圍廣,如提高材料表面的粘附能力,提高焊接能力、結合能力、親水性等諸多方面,因此等離子體清洗成為清洗行業(yè)的主流和趨勢。
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