日本日立熒光分布成像系統(tǒng)概述

2019年10月23日，日立高新技術(shù)公司（TSE:8036，日立高新技術(shù)）正式推出熒光分布成像系統(tǒng)“EEM® View”，此系統(tǒng)由日立高新技術(shù)公司與日本的大學(xué)共同利用機關(guān)法人信息•系統(tǒng)研究機構(gòu) 國立信息學(xué)研究所（所長：喜連川優(yōu)，以下簡稱國立信息學(xué)研究所）共同研發(fā)而成。
EEM® View可直接安裝到F-7100熒光分光光度計上，結(jié)合樣品的光譜數(shù)據(jù)與CMOS*1相機裝置拍攝的圖像，可同時獲得樣品的熒光圖像和反射圖像，因此，對于需要高精度測定的材料、藥物、食品等領(lǐng)域的研發(fā)與品質(zhì)管理等十分重要。

熒光分光光度計經(jīng)過激發(fā)側(cè)單色器將白色光分解成單色光，照射到樣品上使樣品發(fā)射出*的熒光，再經(jīng)發(fā)射側(cè)單色器將熒光分解為單色光到達檢測器，從而測定熒光物質(zhì)的性質(zhì)或濃度等。
近年來，LED照明、顯示屏等中使用的熒光材料越來越精細，因此在電子材料和工業(yè)材料的性能與特性評價中，對熒光分光光度計的測定精度要求越來越高。
此次發(fā)布的熒光分布成像系統(tǒng)“EEM® View”是熒光分光光度計測定專用系統(tǒng)，通過采用積分球*2和CMOS相機裝置，使用領(lǐng)*技術(shù)*3可同時獲得分光圖像和光譜數(shù)據(jù)。
照射的單色光經(jīng)過積分球漫反射獲得均勻的光源，照射樣品，然后通過CMOS相機裝置拍攝圖像，再利用融合AI技術(shù)的計算系統(tǒng)*4，分別顯示熒光成分和反射成分的圖像。此外，這些樣品圖像可以分割成25個小區(qū)域，分別放大顯示每個區(qū)域，并獲得每個區(qū)域?qū)?yīng)的熒光和反射光譜數(shù)據(jù)。在這之前，熒光分光光度計只能獲得樣品的平均光譜數(shù)據(jù)，使用EEM® View不僅可以清晰地看到樣品的反射、熒光光譜，而且還可以通過圖像確認(rèn)樣品產(chǎn)生熒光的位置，獲得特定位置的光譜數(shù)據(jù)，實現(xiàn)了熒光物質(zhì)更高精度的測定。
隨著“EEM® View”在熒光分析中的應(yīng)用，日立高新技術(shù)公司勢必將會在以電子材料和工業(yè)材料為主的領(lǐng)域做出重要貢獻，比如食品檢驗、生命科學(xué)、生物技術(shù)等的研發(fā)與品質(zhì)管理。
日立高新技術(shù)集團以成為科學(xué)儀器界的領(lǐng)XIAN品牌為中期戰(zhàn)略目標(biāo)，全心致力于優(yōu)秀產(chǎn)品的開發(fā)，為制造業(yè)做出更大的貢獻。作為*、前沿的事業(yè)創(chuàng)新型企業(yè)，日立高新技術(shù)集團以成為提供高新技術(shù)和解決方案的*I流企業(yè)為目標(biāo)，始終從客戶立場出發(fā)，快速滿足客戶和市場需求。
* 1CMOS（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）：互補金屬氧化物半導(dǎo)體
* 2積分球：內(nèi)壁涂有高反射涂層的中空球
* 3日立高新技術(shù)公司調(diào)查結(jié)果（截止至2018年12月）
* 4計算系統(tǒng)是國立信息學(xué)研究所的佐藤IMARI教授和鄭銀強副教授共同研究的成果，用于熒光、反射圖像的分離以及各區(qū)域熒光、反射光譜的計算。
* EEM：指激發(fā)發(fā)射矩陣，三維顯示激發(fā)波長、發(fā)射波長、熒光強度，反映物質(zhì)熒光特性的分析數(shù)據(jù)。也被稱為三維熒光光譜、熒光指紋。
*  “EEM”是日立高新技術(shù)公司在日本的注冊商標(biāo)。

日本日立熒光分布成像系統(tǒng)特點

★ 可在不同光源條件下（白色光和單色光）獲得圖像
★ 可利用自主研發(fā)的計算系統(tǒng)，分別顯示熒光圖像和反射圖像
★ 可獲得不同區(qū)域（樶多25個區(qū)域）的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）