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這么準(zhǔn)確的icp光譜儀怎么還產(chǎn)生誤差了？
雖然icp光譜儀本身測(cè)量精度很高，但在測(cè)定樣品中元素含量時(shí)，成果通常與實(shí)踐含量不一致，存在必定差錯(cuò)。并且，因?yàn)槎喾N要素的影響，有些資料的含量很低。以下是對(duì)過錯(cuò)的類型和來源以及怎么避免過錯(cuò)的剖析。依據(jù)差錯(cuò)的性質(zhì)和原因，差錯(cuò)可分為以下幾類：
1、體系過錯(cuò)的來源
?。?）當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品和樣品的含量和化學(xué)成分不*相一起，基質(zhì)線和剖析線的強(qiáng)度可能會(huì)發(fā)生變化，然后引進(jìn)差錯(cuò)。
?。?）當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品和樣品的物理性質(zhì)不*相一起，激起特性線會(huì)不同，導(dǎo)致體系差錯(cuò)。
（3）鑄鋼試樣的金屬安排與退火、淬火、回火、熱軋和鍛鋼試樣的金屬安排不一起，測(cè)得的數(shù)據(jù)也會(huì)不同。
?。?）不知道元素譜線的重疊干擾。例如，在鍛煉過程中加入脫氧劑和脫磷劑時(shí)，會(huì)混入不知道合金元素，造成體系差錯(cuò)。
（5）為消除體系差錯(cuò)，有必要嚴(yán)格遵守標(biāo)準(zhǔn)樣品制備的要求。為了檢查體系差錯(cuò)，需求運(yùn)用化學(xué)剖析方法來剖析校準(zhǔn)成果。
2、偶爾過錯(cuò)的來源
與樣品成分不均勻有關(guān)的差錯(cuò)。因?yàn)閕cp光譜儀光電光譜剖析消耗的樣品很少，樣品中元素分布不均勻、結(jié)構(gòu)不均勻?qū)е虏煌课坏钠饰龀晒煌?，然后發(fā)生意外差錯(cuò)。主要原因如下：
?。?）鍛煉過程中帶入的夾雜物和偏析導(dǎo)致樣品中元素分布不均。
?。?）缺點(diǎn)、氣孔、裂縫、砂孔等。
?。?）交叉研磨圖案、研磨樣品過熱、樣品研磨面放置時(shí)間過長(zhǎng)、指紋等要素。
（4）為削減偶爾差錯(cuò)，需求細(xì)心取樣以消除樣品的不均勻性和樣品的鑄造缺點(diǎn)，或需求重復(fù)剖析以削減剖析差錯(cuò)。
3、其他要素的差錯(cuò)
?。?）氬氣不純。當(dāng)氬氣中含有氧氣和水蒸氣時(shí)，激起點(diǎn)會(huì)變差。如果氬氣管道和電極夾中有污染物不能排放，icp光譜儀剖析成果就會(huì)很差。
（2）室內(nèi)溫度的升高會(huì)增加光電倍增管的暗電流，下降信噪比。高濕度容易導(dǎo)致高壓元件泄漏和放電，使剖析成果不穩(wěn)定。
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