通常情況下制氮機(jī)制取氮?dú)饫锩婧啃∮?.5%時(shí),是可以用脫氮?jiǎng)┲苯映?要是含氮量在0.5-3%時(shí),應(yīng)該用催化劑加氫以此達(dá)到除氮。目的是在常規(guī)情況下使用分層接觸脫氮技術(shù)，以使氮含量超過(guò)3%。這次是化學(xué)計(jì)量能量所需的氫含量，主要是因?yàn)榈械牡刻摺Ｌ砑右淮涡缘獨(dú)獍l(fā)生器很危險(xiǎn)，并且會(huì)產(chǎn)生相對(duì)大量的熱量，因此很容易燃燒催化劑。此時(shí)，必須嚴(yán)格控制氫化量，但是可以逐步除去氮。如果原始氮?dú)庵械牡窟^(guò)高，則可以用一部分純氮?dú)庀♂屧細(xì)怏w。此時(shí)，在除去氫化的接觸氮之前，混合氣體中的氮含量小于3%。

用反硝化器去除雜質(zhì)氮的典型過(guò)程：氮通過(guò)接觸式反硝化器(去除氮)，水冷卻器和吸附式干燥器(去除水蒸氣)和氣體過(guò)濾器(去除粉塵顆粒)后，得到純凈的氮?dú)猱a(chǎn)品。水接觸除氮的典型工藝流程：先向氮中添加適量的氮(添加量至少是氮中氮含量的兩倍)，然后是接觸式除氮器(除氮))。使用冷水機(jī)，吸附式干燥機(jī)(去除水蒸氣)和氣體過(guò)濾器(去除灰塵顆粒)之后，您可以獲得純凈的氮?dú)猱a(chǎn)品。如果氮中的氮含量較高(39%或更高)，則可以使用分級(jí)水接觸除氮工藝。在催化脫氮裝置之前，必須嚴(yán)格控制氫化量，并且必須嚴(yán)格控制氫含量。通過(guò)接觸式氮反硝化裝置1進(jìn)行控制(定時(shí)反硝化)，然后添加少量氫催化反硝化裝置2進(jìn)行二次反硝化。如果源氮包含高氮，則此時(shí)純氮將沒(méi)有過(guò)量的氫。此時(shí)，使用氮?dú)獍l(fā)生器的氮?dú)鈨艋飨葘⒋呋饔眉託?，然后除去氮?dú)?。通過(guò)活性氫化銅去除法提純氮的工藝流程為氮含量。然后，通過(guò)氮?dú)獍l(fā)生器除去氮?dú)?，然后使用電加熱器和氮化反?yīng)除去氮?dú)庵械倪^(guò)氧化氫。