等離子清洗機(jī)能去除材料表面物、顆粒、臟污物、氧化物、有機(jī)物，增加潔凈度、提升親水性、增強(qiáng)粘貼力

等離子清洗機(jī)在光電及電子行業(yè)的應(yīng)用

各種玻璃表面清洗，提高玻璃表面親水性，優(yōu)化玻璃鍍膜、印刷、粘合及噴涂；

鋼化膜噴涂前、3D玻璃表面、建筑玻璃、儀表儀器、玻璃鍍膜前采用等離子清洗機(jī)提高表面潔凈度；

玻璃表面的防指紋、噴指紋油采用等離子清洗機(jī)AF鍍膜防指紋前處理

化妝瓶表面印刷、噴涂前采用等離子清洗機(jī)處理提高瓶身表面附著力；

柔性和非柔性印刷電路板觸點(diǎn)采用等離子清洗機(jī)清潔、LED熒光燈“觸點(diǎn)”清潔及提高表面點(diǎn)膠的牢固性；

電子元件加工采用等離子清洗機(jī)進(jìn)行預(yù)處理、PCB清洗、去靜電、LED支架、IC等表面清潔及粘接等作用；

等離子清洗機(jī)用于手機(jī)按鍵和筆記本鍵盤粘接、手機(jī)外殼和筆記本外殼的涂裝

等離子清洗機(jī)用于LCD柔性薄膜電路貼合，由于等離子體是電中性的，因此在處理時(shí)不會(huì)損傷保護(hù)膜、ITO膜層和偏振濾鏡。等離子清洗機(jī)處理過(guò)程可以“在線”進(jìn)行，并且無(wú)需溶劑，因此更加環(huán)保

等離子清洗機(jī)能去除光刻膠、電路板去膠，提升材料表面的親水性、附著力、粘接力

等離子清洗機(jī)在去除光刻膠方面的具體使用：等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機(jī)不僅能*清除光刻膠等有機(jī)物，還能活化加粗晶圓表面，提高晶圓表面的浸潤(rùn)性，使晶圓表面更加具有粘接力。

晶圓光刻蝕膠等離子清洗機(jī)與傳統(tǒng)設(shè)備相比較，有很多優(yōu)勢(shì)，設(shè)備成本不高，加上清洗過(guò)程氣固相干式反應(yīng)，不消耗水資源，不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝。此外，等離子清洗機(jī)解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應(yīng)不準(zhǔn)確、清洗不*、易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。不需要有機(jī)溶劑，對(duì)環(huán)境也沒(méi)有污染，屬于低成本的綠色清洗方式

作為干法清洗等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng)，一致性好，不僅*去除光刻膠有機(jī)物，而且還活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤(rùn)性

晶圓清潔-等離子清洗機(jī)用于在晶圓凸點(diǎn)工藝前去除污染，還可以去除有機(jī)污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。

等離子清洗機(jī)對(duì)材料表面的刻蝕作用–物理作用：

等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

等離子清洗機(jī)用于刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。廣泛用于真空電子、LED、太陽(yáng)能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域。ICP硅刻蝕、CCP介質(zhì)刻蝕、金屬刻蝕，實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，保證細(xì)小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性