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真空鍍碳儀是目前較為先進(jìn)的對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理的儀器。主要適用于掃描電子顯微（SEM）和X射線微觀分析等表征工作前的鍍碳處理。*的蒸發(fā)源反饋控制技術(shù)保證了20nm厚的桿狀蒸發(fā)源也能夠正常工作。同時(shí)，該產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理緊湊，易于操作，抽放氣周期較快。
技術(shù)特點(diǎn)：
1、電流、電壓檢測(cè)器和先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使得鍍碳過(guò)程穩(wěn)定、高效。
2、脈沖、連續(xù)模式隨意切換。
3、提供“手動(dòng)”和“自動(dòng)”兩種模式。
①手動(dòng)模式下：可調(diào)節(jié)電壓和時(shí)間旋鈕來(lái)控制鍍 碳工藝；
?、谧詣?dòng)模式下：客戶只需提前設(shè)定好 程序，鍍碳儀就按照您的指令運(yùn)行。，易于操作，抽放氣周期較快。
碳蒸發(fā)控制：
真空鍍碳儀對(duì)碳棒－碳蒸發(fā)源使用*的集成的反饋控制設(shè)計(jì)。
電流和電壓通過(guò)磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低，碳棒具有異常的重新蒸鍍特性。
蒸發(fā)源使用兩步超純碳棒。
蒸發(fā)源可以手動(dòng)“脈沖”或“連續(xù)”的方式進(jìn)行鍍膜。“脈沖”方式如果和膜厚監(jiān)測(cè)儀一起使用，可以準(zhǔn)確得到所需要的膜厚。自動(dòng)方式下的操作非常方便，操作者只要設(shè)定電壓和時(shí)間，可以得到一致的鍍膜效果。
真空鍍碳儀的樣品室：
1、樣品室的組件設(shè)計(jì)方式可適應(yīng)多種附件使用。
2、通過(guò)簡(jiǎn)單調(diào)節(jié)工作距離，可方便地調(diào)節(jié)蒸發(fā)速率。
3、*的標(biāo)準(zhǔn)化高/低真空壓力調(diào)節(jié)通過(guò)精密針閥完成。
4、高真空用于*高質(zhì)量地鍍膜，如用于TEM制樣。
5、低真空用于TEM柵網(wǎng)的輝光放電清潔以及掃描電鏡觀察中形貌復(fù)雜樣品的鍍膜。
6、對(duì)于SEM、EDS/WDS和探針?lè)治?，旋轉(zhuǎn)－行星轉(zhuǎn)動(dòng)－傾斜樣品臺(tái)可對(duì)同時(shí)多個(gè)樣品進(jìn)行一致的鍍膜處理。
7、旋轉(zhuǎn)－傾斜臺(tái)特別為T(mén)EM樣品處理設(shè)計(jì)，而且可以放置25x75mm的玻片。
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