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等離子清洗機(jī)去除晶圓合膠光刻膠

來源:煙臺金鷹科技有限公司   2023年01月05日 21:10  

等離子清洗機(jī)不僅能清除晶圓光刻膠等有機(jī)物,還能活化加粗晶圓表面,提高晶圓表面的浸潤性,使晶圓表面更加具有粘接力。

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等離子清洗清除肉眼看不見的晶圓表面的表面污染物。晶圓對顆粒的要求非常高。任何超過標(biāo)準(zhǔn)的顆粒都可能導(dǎo)致晶圓無法彌補(bǔ)的缺陷。

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等離子清洗機(jī)能去除晶圓表面光刻膠和其他有機(jī)物,也可以通過等離子體激活和粗化來處理晶圓表面,因?yàn)榕c傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法相比,等離子體清洗機(jī)的干式處理更加可控,一致性更好,對基體沒有損傷。

等離子清洗晶圓表面,可以有效提高其表面滲透性。經(jīng)等離子清洗機(jī)處理過后,不僅可以獲得超清潔的焊接表面,而且可以大大提高焊接表面的活性,有效防止虛擬焊接,提高產(chǎn)品的可靠性和使用壽命,不需要溶解劑和水.

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晶圓Plasma等離子清洗機(jī)去殘膠:在銀漿粘接芯片工藝中,樹脂擴(kuò)散造成沾污或在固化過程中有機(jī)溶劑揮發(fā),部分揮發(fā)物將沉積于電路表面,造成芯片、鍵合或焊環(huán)表面的微量沾污。為去除有機(jī)溶劑的沾污,需在裝片固化后,引線鍵合前采用微波等離子清洗機(jī)來處理。

等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于晶圓等芯片表面封裝處理,等離子清洗機(jī)能增強(qiáng)引線鍵合和表面密封性,可以去除表面無機(jī)物,還原氧化層,增加銅表面粗糙度,提高產(chǎn)品可靠性可以顯著降低有機(jī)化學(xué)和耗材的消耗,保護(hù)生態(tài)環(huán)境,降低機(jī)械設(shè)備的生產(chǎn)成本。



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