等離子清洗機(jī)清潔、改性、光刻膠灰化。適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備，可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理，等離子清洗機(jī)有兩種配置分別兼容4“/6”/8“或8“/12“晶圓。等離子清洗機(jī)的設(shè)計(jì)緊湊占地面積小，設(shè)備穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。等離子清洗機(jī)能去除材料表面的機(jī)械損傷、化學(xué)溶劑、完整的綠色工藝、脫模劑、添加劑、增塑劑或其他由碳?xì)浠衔锝M成的表面污染物。等離子清洗機(jī)表面清潔能去除牢固附著在塑料表面的非常細(xì)小的灰塵顆粒。通過一系列的反應(yīng)和相互作用，等離子體清洗機(jī)能去除物體表面的這些塵埃顆粒。這可以顯著降低各行業(yè)等對質(zhì)量要求較高的涂裝作業(yè)的報(bào)廢率。通過一系列微觀層面的物理化學(xué)作用，等離子體清洗機(jī)的表面清洗作用可以獲得精細(xì)、優(yōu)質(zhì)的表面。

等離子清洗機(jī)在去除光刻膠方面的具體使用：

等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機(jī)不僅能清除光刻膠等有機(jī)物，還能活化加粗晶圓表面，提高晶圓表面的浸潤性，使晶圓表面更加具有粘接力。

等離子表面處理機(jī)是利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。低溫等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。

等離子表面處理機(jī)可用于清洗、刻蝕、活化和表面準(zhǔn)備等，可選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。