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勻膠旋涂?jī)x在勻膠過(guò)程中可能會(huì)出現(xiàn)的問(wèn)題？
勻膠旋涂?jī)x通過(guò)在片材保持器上產(chǎn)生負(fù)壓來(lái)吸收待旋涂在片材固定器上的基材，并且膠滴到基材表面上。離心力通過(guò)精確調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速而改變。同時(shí)，膠水流由滴膠裝置控制，以達(dá)到薄膜制備所需的厚度。此外，膜厚度還取決于環(huán)境因素，如旋涂時(shí)間、膠水粘度、殘余涂層溫度和濕度。勻膠旋涂?jī)x廣泛應(yīng)用于I砸EMS微加工，生物，材料等領(lǐng)域，它可以用來(lái)制備厚度小于10納米薄膜。也常應(yīng)用在約1-100微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。在使用過(guò)程中勻膠工藝常見(jiàn)問(wèn)題有：
1、表面出現(xiàn)氣泡可能原因：滴膠時(shí)膠中帶有氣泡；噴嘴*端切囗有問(wèn)題或帶刺問(wèn)題
2、四周呈現(xiàn)放射狀條紋可能原因：膠液噴射速度過(guò)高；設(shè)備排氣速度過(guò)高；膠涂覆前靜止時(shí)間過(guò)長(zhǎng)；勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速或加速度設(shè)置過(guò)高；片子表片留有小顆粒膠中有顆粒
3、中心出現(xiàn)漩渦圖案可能原因：設(shè)備排氣速度過(guò)高；噴膠時(shí)膠液偏離襯底中心；旋圖時(shí)間過(guò)長(zhǎng)；加速度過(guò)高
4、中心出現(xiàn)圓暈可能原因：不合適的托盤，噴嘴偏離襯底中心
5、膠液未涂滿襯底可能原因：給膠量不足；不合適的勻膠加速度
6、出現(xiàn)針孔現(xiàn)象可能原因：空氣中粉塵；光刻膠內(nèi)存在顆?；驓馀?；襯底上存在顆粒
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