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F20膜厚測量系統(tǒng)的特點
這是一種行業(yè)標準、低成本、多功能桌面薄膜厚度測量系統(tǒng)，在全球安裝了 5,000 多個裝置。它可用于廣泛的應用，從研究和開發(fā)到制造現(xiàn)場的在線測量。
F20基于光學干涉法，可以在約1秒內(nèi)輕松測量透明或半透明薄膜的厚度、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信，因此也可以從PLC或主機進行控制。
主要特點
兼容多種薄膜厚度（1nm 至 250μm）
兼容寬波長范圍（190nm至1700nm）
強大的膜厚分析
光學常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊型外殼
支持在線測量
主要用途
| 平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、 各種光學膜等 |
|---|---|
| 半導體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
| 光學鍍膜 | 防反射膜、硬涂層等 |
| 薄膜太陽能電池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等 | |
| 醫(yī)療保健 | 鈍化、藥物涂層等 |
產(chǎn)品陣容
| 模型 | F20-UV | F20 | F20-HR | F20-近紅外 | F20-EXR | F20-UVX |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 測量波長范圍 | 190 – 1100nm | 380 – 1050納米 | 440 – 1000nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
| 膜厚測量范圍 | 1nm – 40μm | 15納米 – 70微米 | 50納米 – 180微米 | 100nm – 250μm | 15納米 – 250微米 | 1nm – 250μm |
| 準確性* | 膜厚的±0.2% | 膜厚的±0.4% | 膜厚的±0.2% | |||
| ±1nm | ±2nm | ±3nm | ±2nm | ±1nm | ||
| 測量光斑直徑 | 1.5mm 或 0.5mm（ 最小 0.1mm）可供選擇（可選） | |||||
| 光源 | 氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 | |||
*測量 Filmetrics 提供的 Si 基板上的 SiO2 薄膜時設備本身的精度。
測量示例
可以測量從半導體等精密加工品到玻璃、汽車零部件等各種樣品的膜厚。
多晶硅薄膜的膜厚和折射率分析
玻璃硬質(zhì)鍍膜膜厚分析
相關產(chǎn)品
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