超聲波噴涂是一種光刻膠和聚酰亞胺涂料的簡單、經(jīng)濟和可重復(fù)工藝。超聲波涂層系統(tǒng)能夠使用簡單的分層技術(shù)精細控制流量、涂層速度和沉積量。

超聲波噴涂技術(shù)用于半導體光刻膠涂料。與傳統(tǒng)的紡紗涂層和浸漬涂層工藝相比，具有均勻性高、微結(jié)構(gòu)封裝性好、涂層面積可控制等優(yōu)點。近10年來，三維微結(jié)構(gòu)光刻膠涂層的應(yīng)用得到了充分的論證。超聲波霧化噴涂制備光刻膠涂料的工藝在微結(jié)構(gòu)包裝和均勻性工藝方面明顯優(yōu)于傳統(tǒng)的紡絲涂料。

超聲波噴涂系統(tǒng)能精確控制流量、涂層速度和沉降體積。低速噴霧成型將噴霧定義為一種精確的、可控制的圖案，以避免在產(chǎn)生非常薄和均勻的層時過度噴霧。該超聲波噴涂系統(tǒng)可控制從亞微米到100微米以上的厚度，并可覆蓋任何形狀或尺寸。

光刻膠的超聲波涂層技術(shù)的特點：

◆各種表面輪廓的均勻薄膜覆蓋

◆非接觸噴灑

◆微氣流噴灑,多種液體喂養(yǎng)方案

◆高速控制精度

◆高液體利用率

◆化學和涂層性能的高度靈活性

◆噴霧噴霧

◆高傳輸效率和最小廢物

◆可重復(fù)的成熟噴灑工藝

超聲波光刻膠涂層系統(tǒng)的應(yīng)用：

超聲波光刻膠涂層系統(tǒng)可用于平面和三維結(jié)構(gòu)基材的表面涂層，包括硅片、玻璃、陶瓷、金屬等材料。典型的光刻膠涂料應(yīng)用包括晶圓、MEMS、透鏡、微流體芯片、濾波器等。