光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上,光刻機的種類可分為:接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機是一種利用光學原理進行微細加工的設備。其原理是利用光學透鏡將光線聚焦到光刻膠表面,通過光刻膠的光化學反應來形成微細的圖形。光刻機的核心部件是光刻膠,光刻膠是一種特殊的聚合物材料,其特點是在光的照射下會發(fā)生化學反應,從而形成微細的圖形。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子,例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設計,方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的**族材料,包括砷化鎵和磷化銦。而且該設備可通過選配升級套件,實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下特點:高分辨率掩模對準光刻,特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡,實現(xiàn)快速準確對準、針對厚膠工藝進行優(yōu)化的高分辨光學系統(tǒng)、可選配通用光學器件,在不同波長間進行快速切換等。
光刻機在芯片制造中的應用廣泛。在芯片制造的過程中,需要將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上,這就需要利用光刻機進行微細加工。光刻機可以將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上,從而形成微細的電路結(jié)構(gòu)。光刻機的分辨率越高,制造出來的芯片就越精細,性能也越好。
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