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光刻機(jī)又名掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上，光刻機(jī)的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機(jī)是一種利用光學(xué)原理進(jìn)行微細(xì)加工的設(shè)備。其原理是利用光學(xué)透鏡將光線聚焦到光刻膠表面，通過光刻膠的光化學(xué)反應(yīng)來形成微細(xì)的圖形。光刻機(jī)的核心部件是光刻膠，光刻膠是一種特殊的聚合物材料，其特點(diǎn)是在光的照射下會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而形成微細(xì)的圖形。
該光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計(jì)，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的**族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級套件，實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下特點(diǎn)：高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確對準(zhǔn)、針對厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統(tǒng)、可選配通用光學(xué)器件，在不同波長間進(jìn)行快速切換等。
光刻機(jī)在芯片制造中的應(yīng)用廣泛。在芯片制造的過程中，需要將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，這就需要利用光刻機(jī)進(jìn)行微細(xì)加工。光刻機(jī)可以將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，從而形成微細(xì)的電路結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)的分辨率越高，制造出來的芯片就越精細(xì)，性能也越好。
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