精細工藝，從光刻膠開始

光刻膠，又稱光致抗蝕劑，一種特殊的光敏物質，是微電子和半導體制造中不可或缺的材料，同時也是集成電路制造的核心耗材。它不僅關系到產(chǎn)品的最終性能，更是成品率和可靠性的決定性因素。

在半導體光刻工藝流程中，包括了脫水烘烤、旋轉涂膠、軟烘、曝光、曝光后烘烤、顯影、堅膜烘烤、顯影檢查等環(huán)節(jié)，只有使用固含量合適的光刻膠，才能確保上述流程順利進行。

比如，在旋轉涂膠的環(huán)節(jié)中，如果使用了固含量偏高的光刻膠，就會導致涂布后形成相對較厚的薄膜；反之，則會形成較薄的涂膜，直接影響了圖案的精細程度和分辨率。又比如，在顯影環(huán)節(jié)，如果選用了固含量較高的光刻膠，則會大幅增加所需的顯影時間，降低了生產(chǎn)效率的同時，也會更容易導致光刻膠曝光后發(fā)生形變或收縮，導致圖案的失真和變形。

因此，對于光刻膠研發(fā)生產(chǎn)企業(yè)來說，只有準確快速地測試光刻膠固含量，才能確保產(chǎn)品質量合格，并符合客戶要求。然而，如果使用傳統(tǒng)的烘箱，則會面臨光刻膠在進出烘箱時吸水，導致測試結果不準、測試效率低（通常需要數(shù)小時）的問題，無法完全滿足實驗需求，耽誤生產(chǎn)及研發(fā)進度，給客戶帶來損失。

面對這樣的挑戰(zhàn)，梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀則能完美解決這些問題，同時確保絕佳的測試重復性，助您輕松應對光刻膠的固含量測定。

光刻膠固含量測定新革命

梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀具有溫和升溫功能，在設定的時間內(nèi)緩慢升溫至設定的溫度，最大化降低有機溶劑冷凝回流的發(fā)生概率，也防止光刻膠表面結膜，確保測試結果的準確性。

 

 

 

梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀采用環(huán)形鹵素燈加熱，確保樣品始終均勻受熱；測試過程中，稱重傳感器不斷記錄樣品重量，并自動判斷恒重；測試結束后，屏幕上自動顯示最終固含量結果，無需人工計算，避免出錯。與傳統(tǒng)的烘箱相比，用快速水份測定儀還能避免出現(xiàn)樣品在進出烘箱時吸收實驗室空氣中水份的情況，確保測試結果始終準確。