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光刻是半導體制程中的關鍵步驟，隨著微電子制造技術的發(fā)展，對光刻的精密度、復雜度的要求逐漸增高。在這一過程中，光刻膠作為光刻技術不可或缺的組成部分，其性能對光刻的最終效果起著至關重要的作用。光刻膠也叫光致抗蝕劑，是一種光敏材料，在特定波長光源的照射下會發(fā)生化學變化，如聚合或分解，可以將掩模版上的圖案轉印到晶圓表面。根據所使用的曝光波長的不同，半導體光刻膠可分為紫外寬光譜（300 - 450 nm）、G 線（436 nm）、I 線（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm）、EUV（13.5 nm）幾種類型。
表 1. 光刻膠種類（按曝光波長分類）
光刻膠通常由光敏劑、樹脂、聚合物單體、溶劑和其他助劑組成。其中，光產酸劑是各類化學增幅抗蝕劑的關鍵組分之一，可以增強抗蝕劑膜層的光照部分與非光照部分的溶解度差異反差，從而實現清晰的顯影成像。研究發(fā)現，產酸源透明度的改善是提高 193 nm 光刻膠性質的關鍵因素之一。因此，研究產酸劑在溶劑和固體膜層中的透光性尤為重要。此外，透過率也是評估成品光刻膠膜的重要指標之一。
紫外可見分光光度計是評價樣品透過率和反射率等光學性能的常用設備。安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀，均可測試低至175nm的波長范圍，且具有優(yōu)異的光度穩(wěn)定性和線性范圍，在 193 nm、248 nm 這兩個關鍵波長處具有優(yōu)異的性能表現。
圖 1. 193 nm 某樣品 10 次測試重復性最大偏差優(yōu)于 0.025 %
圖 2. 248 nm 某樣品 10 次測試重復性最大偏差優(yōu)于 0.010 %
安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀，使用簡單便捷，堅實耐用，附件齊全，搭配液體支架可以測試液體膠水的透過率，通過固體樣品支架還可以測試固體膠膜的透過率。
圖 3. Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀
圖 6. Cary4000 測試固化于玻片上的光刻膠透過率
結論
安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀光學性能卓越，具備極低的噪音和雜散光水平，對于挑戰(zhàn)性的低波段具有優(yōu)異的穩(wěn)定性，其測試結果準確可靠，在光學測試領域有極高的市場認可度。
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