愛發(fā)科(ULVAC)真空泵憑借其多樣化技術路線(干式/油式)和優(yōu)秀的穩(wěn)定性,廣泛應用于以下核心領域:
?一、半導體與制造?
?芯片制造關鍵工藝?
用于刻蝕、離子注入、薄膜沉積等環(huán)節(jié),提供高潔凈真空環(huán)境(干式泵避免油污染晶圓)。
濺射設備中維持10?3 Pa真空度,保障金屬鍍層均勻性(如GLD系列油旋片泵)。
?顯示面板與光學鍍膜?
液晶面板生產(chǎn)的真空貼合工藝,確保無氣泡缺陷。
光學鏡片鍍膜時提供穩(wěn)定真空,提升薄膜附著力(DAP-6D隔膜泵適用小型設備)。
?二、能源與化工?
?新能源電池生產(chǎn)?
電極材料干燥工序中創(chuàng)造無油真空,防止電解液污染。
太陽能電池硅片鍍膜設備的真空系統(tǒng)。
?化工流程強化?
真空蒸餾、分子蒸餾工藝的核心動力源(耐腐蝕型號處理酸性氣體)。
腐蝕性氣體回收(如DAT-100S干泵耐受HF、Cl?)。
?三、通用工業(yè)場景?
?核心性能優(yōu)勢?
?高潔凈度?:干式泵(如DAT系列)有效杜絕油蒸氣反流,滿足半導體級潔凈要求。
?強適應性?:
油旋片泵(VDN301)支持高粉塵、水蒸氣環(huán)境。
特殊涂層泵體耐腐蝕性提升3倍以上。
?低維護設計?:無彈簧旋片結構(如VSN2401)避免停泵故障,壽命延長40%。
注:油式泵需定期更換密封件和潤滑油,建議按廠商指南維護。
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