高溫實驗室箱式爐作為科研與工業(yè)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,其設(shè)計融合了精密控溫、材料適應性、安全防護等多方面技術(shù),以滿足高溫實驗的嚴苛需求。以下是其核心特點的詳細解析:
一、精準的溫度控制能力
寬溫域覆蓋
范圍:通常支持室溫至1600℃(部分型號可達1800℃甚至更高),覆蓋金屬熱處理、陶瓷燒結(jié)、半導體氧化等全流程溫度需求。
案例:在制備氮化硅陶瓷時,需在1400-1600℃下保溫數(shù)小時以實現(xiàn)致密化,箱式爐可穩(wěn)定維持該溫度區(qū)間。
高精度控溫
傳感器與算法:采用K型或S型熱電偶(精度±0.5℃),結(jié)合PID智能控溫算法,實現(xiàn)溫度波動≤±2℃(部分型號達±1℃)。
應用場景:晶圓退火工藝中,溫度波動需控制在±10℃以內(nèi),否則會導致載流子遷移率下降,箱式爐的精準控溫可確保工藝重復性。
多段程序升溫
功能:支持設(shè)置10-50段升溫/保溫/降溫程序,每段溫度、時間獨立可調(diào),適應復雜材料合成需求。
案例:鋰離子電池正極材料LiCoO?的合成需經(jīng)歷“干燥(120℃/2h)→預燒(450℃/5h)→高溫燒結(jié)(900℃/12h)”三階段,箱式爐的程序升溫功能可自動化完成全流程。
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。