X射線光譜儀除光電吸收外,入射光子還可與原子碰撞,在各個方向上發(fā)生散射。x射線與物質的散射是由于x射線光譜儀與電子的相互作用而產生。散射作用分為兩種,即相干散射和非相干散射。如果被散射光子能量與入射光子能量相同,則稱為相干散射或彈性散射,相干散射又稱為瑞利散射,沒有能量損失。如果出現(xiàn)能量變化或損失,則為非相千散射,也稱為康普頓散射。相干散射與光干涉現(xiàn)象相互作用的結果可產生x射線光譜儀衍射。x射線光譜儀衍射圖與晶格排列等密切相關,可被用于研究物質結構。入射x射線光子與靶元素的內層電子碰撞,如果光子能量保持不變而只是改變了出射方向,這時的散射作用為相千散射,從能譜圖上看,相干散射峰對應于入射光子能量,相干散射由于受物質表面形狀等影響較小,常被用來進行形態(tài)校正,以在一定程度上補償形態(tài)、粒度等變化對分析結果的影響。
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權利。