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X熒光光譜儀是由X射線制作，元素的原子受到高能輻射激發(fā)而引起內(nèi)層電子的躍遷，同時(shí)發(fā)射出具有一定特殊性波長(zhǎng)的X射線，根據(jù)莫斯萊定律，熒光X射線的波長(zhǎng)λ與元素的原子序數(shù)Z有關(guān)，其數(shù)學(xué)關(guān)系如下：λ=K(Z-s)-2 式中K和S是常數(shù)。
主要用途：儀器是較新型X射線熒光光譜儀，具有重現(xiàn)性好，測(cè)量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對(duì)象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果度對(duì)某些樣品可以接近定量水平，分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測(cè)量樣品的大尺寸要求為直徑51mm,高40mm。
x熒光光譜儀
指標(biāo)信息：1.發(fā)射源是Rh靶X光管，大電流125mA，電壓60kV，大功率3kW2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量范圍是ppm～4.分析軟件是Philips公司(現(xiàn)為PANalytical)新版軟件，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計(jì)算率N=1483870時(shí)，RSD=0.08%穩(wěn)定性計(jì)算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對(duì)誤差為0.03%
分析對(duì)象主要有各種磁性材料(NdFeB、SmCo合金、FeTbDy)、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等，以及各種形態(tài)樣品的無標(biāo)半定量分析，對(duì)于均勻的顆粒度較小的粉末或合金，結(jié)果接近于定量分析的度。X熒光分析快速，某些樣品當(dāng)天就可以得到分析結(jié)果。適合課題研究和生產(chǎn)監(jiān)控。
波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜采用晶體或人工擬晶體根據(jù)Bragg定律將不同能量的譜線分開，然后進(jìn)行測(cè)量。波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜一般采用X射線管作激發(fā)源，可分為順序式(或稱單道式或掃描式)、同時(shí)式(或稱多道式)譜儀、和順序式與同時(shí)式相結(jié)合的譜儀三種類型。順序式通過掃描方法逐個(gè)測(cè)量元素，因此測(cè)量速度通常比同時(shí)式慢，適用于科研及多用途的工作。同時(shí)式則適用于相對(duì)固定組成，對(duì)測(cè)量速度要求高和批量試樣分析,順序式與同時(shí)式相結(jié)合的譜儀結(jié)合了兩者的優(yōu)點(diǎn)。
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