卡博萊特●蓋羅的HTK系列包括三款設(shè)備共有六種尺寸較小的尺寸為8-25升。常應(yīng)用于實(shí)驗室研發(fā)。而80-600升容積的型號更多為制造和生產(chǎn)服務(wù)，也可根據(jù)用戶要求定制不同的尺寸和容積。

優(yōu)點(diǎn)概述：

- 水冷型雙層壁真空爐膛
- 帶流量監(jiān)控、調(diào)節(jié)和水溫顯示的水冷系統(tǒng)
- 安全溫度監(jiān)控使用獨(dú)立的控制器及熱電偶
- 多種可選配件：
    快速冷卻裝置；特殊過程中的除塵裝置；可燃?xì)怏w安全包裝；
    用于更換氣氛的真空泵；CO，H2，He的供氣裝置

石墨爐： 

石墨爐適用于真空/高真空下和保護(hù)氣氛例如氮?dú)?氬氣，同樣適用于反應(yīng)氣體如氫氣和一氧化氮，但不能在大氣下操作。應(yīng)用范圍包括工業(yè)陶瓷如SiC，SiN，BC，AlN以及其組合。在復(fù)合材料領(lǐng)域，主要應(yīng)用于熱解，燒結(jié)，硅化和石墨化。

鉬制和鎢制金屬爐： 

金屬爐沒有纖維隔熱，從而提高了保護(hù)氣氛的純度和極限真空度。復(fù)雜的設(shè)計應(yīng)用于要求在無碳環(huán)境中的樣品處理。例如在照明行業(yè)中的應(yīng)用，金屬粉末注射成型，藍(lán)寶石玻璃的回火，金屬的熱處理，在核工業(yè)中的顆粒燒結(jié)，雷達(dá)管制造，金屬陶瓷元件，高真空釬焊等。

陶瓷纖維爐： 

帶陶瓷纖維爐襯的箱式爐適用于固定氧濃度或 100 % 氧氛圍。同樣可涉及氮?dú)夂蜌鍤?。但氣體純度必須較高?？蓱?yīng)用于壓電陶瓷材料工藝中，燒結(jié)所有氧化物材料。其他應(yīng)用包括金屬熱處理，晶體生長和陶瓷粉末的生產(chǎn)。