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賀利氏:紫外線表面清潔和表面活化

來源:埃賽力達(dá)特種光源(原賀利氏特種光源)   2015年11月16日 09:50  

 

真空紫外線表面清潔晶片

真空紫外線表面活化

如何使用紫外線活化及清潔表面?

 

高能紫外線光子能夠以分子有機(jī)鍵合的方式在表面附近或其上被拆解。
開放的鍵合點則將在zui短時間內(nèi)重新形成化學(xué)穩(wěn)定狀態(tài)。
以周圍環(huán)境或臭氧中的氧氣為例,其將通過紫外線輻射作用從周圍氧氣中生成并作為此時的反應(yīng)劑使用。由此生成的原子及原子團(tuán)將使已拆解的鍵合達(dá)到飽和,從而在表面周圍形成全新的化合物。

常規(guī)周圍空氣中進(jìn)行紫外線處理通常會形成的羥基、羰基和/或羧基,這一結(jié)果可借助 ATR XPS 測量予以證明。經(jīng)過上述處理后,表面可具備更高的極性,從而不僅影響了附著力,而且影響了表面能量。

 

表面活化及清潔的應(yīng)用領(lǐng)域

 

--活化與清潔具有有機(jī)性的表面,如塑料

--因吸收有機(jī)污物而必須予以清潔的表面,如金屬或玻璃

 

表面活化及清潔的產(chǎn)品

 

使用紫外線處理表面時,可使用特種光源,此類光源能夠產(chǎn)生低于 200 nm 低位光譜范圍內(nèi)的高比重輻射。

--波長為 172 nm 的紫外線準(zhǔn)分子輻射器

--發(fā)射波長為 185 254 nm 的紫外線汞輻射器

 

紫外線活化和清潔表面的優(yōu)勢

 

--通過提高表面能量優(yōu)化浸潤性

--不使用化學(xué)物質(zhì),因而環(huán)保

--不傷及材料

--工藝簡單

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