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復納科學儀器(上海)有限公司

11
  • 2017

    03-14

    掃描電鏡成象原理及特點

    一、掃描電鏡成象原理掃描電鏡主要用二次電子觀察形貌,成像原理如圖所示。在掃描電鏡中,電子槍發(fā)射出來的電子束,經三個電磁透鏡聚焦后,成直徑為幾個納米的電子束。末級透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做光柵狀掃描。試樣在電子束作用下,激發(fā)出各種信號,信號的強度取決于試樣表面的形貌、受激區(qū)域的成分和晶體取向。設在試樣附近的探測器把激發(fā)出的電子信號接受下來,經信號處理放大系統(tǒng)后,輸送到顯象管柵極以調制顯象管的亮度。由于顯象管中的電子束和鏡筒中的電子束是同步掃描的,顯象管上各點的亮度是由試樣上各點激發(fā)
  • 2017

    03-09

    X射線衍射儀的原理是什么?X射線衍射儀的原理詳解

    X射線衍射儀是一種常用的檢測儀器,利用波長很短的電磁波能穿透一定厚度的物質,并能使熒光物質發(fā)光、照相機乳膠感光、氣體電離。X射線衍射儀的原理是什么用戶都了解嗎?下面小編就來具體介紹一下,希望可以幫助到大家。X射線衍射儀的原理x射線的波長和晶體內部原子面之間的間距相近,晶體可以作為X射線的空間衍射光柵,即一束X射線照射到物體上時,受到物體中原子的散射,每個原子都產生散射波,這些波互相干涉,結果就產生衍射。衍射波疊加的結果使射線的強度在某些方向上加強,在其他方向上減弱。分析衍射結果,便可獲得晶體結構
  • 2017

    03-03

    帕納科公司近日推出2款臺式XRF

    近日帕納科推出了Epsilon3X和Epsilon3XLE臺式X射線熒光光譜儀。Epsilon3X系列是在基于*代Epsilon3XRF的成功經驗的基礎上,采用了的先進的X射線源及檢測技術,針對周期表中的元素分析均可提供可靠的分析結果。Epsilon3X配備50kV激發(fā)電壓的X射線管和的高分辨率硅漂移探測器,能夠分析從Na到Am的元素。同時,Epsilon3XLE配置了更強大的SDDUltra硅漂移探測器,使得像碳,氮和氧等超輕元素的分析成為可能。對于X射線熒光分析的基本元素可以在從ppm至10
  • 2017

    02-21

    掃描電子顯微鏡的基本介紹

    掃描電子顯微鏡的制造是依據(jù)電子與物質的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質表面時,被激發(fā)的區(qū)域將產生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產生的電磁輻射。同時,也可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振蕩(等離子體)。原則上講,利用電子和物質的相互作用,可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息,如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。原則上講,利用電子和物質的相互作用,可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信
  • 2017

    02-17

    X射線衍射儀的原理是什么?X射線衍射儀的原理詳解

    Aeris臺式X射線粉末衍射儀(XRD)是的X射線分析儀器和軟件供應商荷蘭帕納科公司于2016年11月1日宣布推出的新產品。這款新產品的主要優(yōu)點是易于使用并可為使用者帶來諸多好處,能夠快速、地提供被測材料的物相信息。考慮到很多行業(yè)對材料分析都有一些特定需求:一方面,Aeris為滿足水泥、礦山和冶金行業(yè)的特定需求而量身定制了多個版本。這些版本都可提供快速、的結晶礦相信息,進而用于生產流程的控制和優(yōu)化。另一方面,Aeris科研版則是專為在各種實驗室中快速地進行XRD掃描而設計的一個版本,可供材料及其
  • 2017

    02-13

    掃描電子顯微鏡入門知識

    1.光學顯微鏡以可見光為介質,電子顯微鏡以電子束為介質,由于電子束波長遠較可見光小,故電子顯微鏡分辨率遠比光學顯微鏡高。光學顯微鏡放大倍率zui高只有約1500倍,掃描式顯微鏡可放大到10000倍以上。2.根據(jù)deBroglie波動理論,電子的波長僅與加速電壓有關:λe=h/mv=h/(2qmV)1/2=12.2/(V)1/2(?)在10KV的加速電壓之下,電子的波長僅為0.12?,遠低于可見光的4000-7000?,所以電子顯微鏡分辨率自然比光學顯微鏡*許多,但是掃描式電子顯微鏡的電子束直徑大
  • 2017

    02-08

    掃描電鏡的分辨能力適用表征標準范圍-科學與藝術的選擇

    1、掃描電鏡的相對極限適用表征形貌標準--結構特征放大到3-6mm,能看出基本外形和結構特征。儀器觀測條件需要發(fā)揮到相對極限。操縱難度高,需要極大耐心豐富的操縱經驗。場發(fā)射大型掃描電鏡有效表征:20nm-40nm對應倍數(shù)15萬-30萬倍對應觀察視野寬度800nm--400nm六硼化鑭大型掃描電鏡有效表征:40nm-80nm對應倍數(shù)7.5萬-15萬倍對應觀察視野寬度1.6μm--800nm鎢燈絲大型掃描電鏡有效表征:60nm-120nm對應倍數(shù)5萬-10萬倍對應觀察視野寬度2.4μm--1.2μm
  • 2017

    01-17

    飛納臺式掃描電鏡、標準版智能、、經濟

    放大倍數(shù):20-30,000;分辨率:優(yōu)于30nm電子槍:1500小時CeB6燈絲抽真空時間:10秒樣品移動方式:自動馬達樣品臺樣品定位方式:光學和低倍電子雙重導航樣品導電性要求:無需噴金,直接觀測絕緣體環(huán)境掃描選件(ESEM):溫控樣品臺,可直接觀測液體可升級為PhenomPro專業(yè)版Phenom(飛納)Pure(飛納臺式掃描電鏡標準版)一款性能和價格介于光學顯微鏡和傳統(tǒng)大電鏡之間的經濟型臺式掃描電鏡,可用于測量亞微米尺寸的樣品。PhenomPure適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選,也適合于
  • 2017

    01-13

    現(xiàn)代掃描電鏡的發(fā)展及其在材料科學中的應用

    介紹了掃描電子顯微鏡的工作原理和特點,特別是近幾年發(fā)展起來的環(huán)境掃描電鏡(ES2EM)及其附帶分析部件如能譜儀、EBSD裝置等的原理、特點和功能,并結合鋼鐵材料研究展望了其應用前景。1、掃描電鏡原理掃描電鏡(ScanningElectronMicroscope,簡寫為SEM)是一個復雜的系統(tǒng),濃縮了電子光學技術、真空技術、精細機械結構以及現(xiàn)代計算機控制技術。成像是采用二次電子或背散射電子等工作方式,隨著掃描電鏡的發(fā)展和應用的拓展,相繼發(fā)展了宏觀斷口學和顯微斷口學。掃描電鏡是在加速高壓作用下將電子
  • 2017

    01-09

    維護和使用好自己的掃描電鏡,要膽大心細!

    掃描電鏡向普及方面發(fā)展,通過調查研究,發(fā)現(xiàn)很多用戶,尤其是使用用進口電鏡的企業(yè)客戶,也包括很多大學的研究室,其效果比起國產電鏡效果大打折扣,究其原因,主要是操作者缺乏對儀器的有效維護,和科學的使用,造成儀器功能被嚴重弱化。另外,國外廠商為了突出技術上競爭的巨大優(yōu)勢,在宣傳上,把掃描電鏡的操作和維護向傻瓜機方向介紹,給客戶造成設備依賴心理,對培訓亦不重視!掃描電鏡是大型精密分析儀器,結構原理復雜,是電子光學,高真空系統(tǒng),精密機械,電氣控制,計算機應用緊密結合的技術密集型產品。因此要想應用自如,不能
  • 2016

    12-30

    掃描電鏡介紹

    掃描電鏡全稱為掃描電子顯微鏡,是自上世紀60年代作為商用電鏡面世以來迅速發(fā)展起來的一種新型的電子光學儀器。由于它具有制樣簡單、放大倍數(shù)可調范圍寬、圖像的分辨率高、景深大等特點,故被廣泛地應用于化學、生物、醫(yī)學、冶金、材料、半導體制造、微電路檢查等各個研究領域和工業(yè)部門。掃描電鏡的制造是依據(jù)電子與物質的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質表面時,被激發(fā)的區(qū)域將產生二次電子、俄歇電子、特征X射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產生的電磁輻射。同時,也可產生電子-空
  • 2016

    07-11

    透射及掃描電鏡的操作方法

    一、實驗目的:1、了解透射電鏡、掃描電鏡各部件的名稱、結構及性能;2、了解透射及掃描電鏡的基本操作程序;3、了解電鏡樣品制備的配套設備。二、實驗儀器及用品:透射電鏡;掃描電鏡;小白鼠肝臟超薄切片;酵母菌或乳酸桿菌的負染樣品;噴好金膜的葉片及花粉樣品三、方法步驟:(一)透射電鏡操作規(guī)程:1、本儀器的操作者必須熟悉儀器的全部操作規(guī)程,通過操作考試后才能正式上機操作。2、操作程序1)開機準備(1)合上總電源閘刀,開啟電子交流穩(wěn)壓器,電壓指示應為220V。開啟循環(huán)水,溫度指示應為15-20℃。(2)開啟
  • 2016

    06-14

    掃描電鏡原理

    掃描電子顯微鏡的設計思想和工作原理,早在1935年便已被提出來了。1942年,英國首先制成一臺實驗室用的掃描電鏡,但由于成像的分辨率很差,照相時間太長,所以實用價值不大。經過各國科學工作者的努力,尤其是隨著電子工業(yè)技術水平的不斷發(fā)展,到1956年開始生產商品掃描電鏡。近數(shù)十年來,掃描電鏡已廣泛地應用在生物學、醫(yī)學、冶金學等學科的領域中,促進了各有關學科的發(fā)展。一.掃描電鏡的特點和光學顯微鏡及透射電鏡相比,掃描電鏡具有以下特點:(一)能夠直接觀察樣品表面的結構,樣品的尺寸可大至120mm×80mm
  • 2016

    06-06

    激光共聚焦顯微鏡和掃描電鏡的區(qū)別

    激光共聚焦顯微鏡和掃描電鏡的區(qū)別激光共聚焦顯微鏡和掃描電鏡都是點源逐點掃描成像,通過控制掃描驅動范圍,調節(jié)放大倍數(shù)。激光共聚焦顯微鏡是通過激光掃描的方式工作,可以獲得三維圖像。掃描電鏡是利用細聚焦電子束在樣品表面掃描時激發(fā)出來的各種物理信號來調制成像的,只能得到二維圖像,不能得到三維圖像。1、極限分辨率不同(放大信號源不同)激光共聚焦:極限分辨率150nm掃描電鏡:20nm~0.8nm2、掃描驅動方式不同激光共聚焦:激光轉鏡控制激光掃描范圍和掃描速度掃描電鏡:電磁線圈控制電子束掃描范圍和掃描速度
  • 2016

    05-20

    臺式掃描電鏡飛納 Phenom 在德米特成功安裝驗收

    臺式掃描電鏡飛納Phenom在德米特成功安裝驗收。飛納臺式掃描電子顯微鏡繼續(xù)*臺式掃描電鏡市場,飛納電鏡系列產品來自歐洲四大高科技聚居地之一——荷蘭的的埃因霍溫,飛納Phenom的工廠就設在這里。從一開始就專注于臺式掃描電鏡領域,來源于專注,2015年,PW推出第4代產品,分辨率達到14納米,放大倍率13萬倍,并推出了飛納臺式掃描電鏡大樣品室版PhenomXL,不僅延續(xù)了飛納臺式掃描電鏡系列的產品簡單的操作方式,在此基礎上,實現(xiàn)了更大的樣品倉,樣品倉尺寸高達100mmX100mmX65mm,一次
  • 2016

    05-19

    PhenomPro掃描式電子顯微鏡

    掃描式電子顯微鏡(SEM)是1965年發(fā)明的較現(xiàn)代的細胞生物學研究工具,主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態(tài),即用極狹窄的電子束去掃描樣品,通過電子束與樣品的相互作用產生各種效應,其中主要是樣品的二次電子發(fā)射。掃描電鏡(SEM)是介于透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀性貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。PhenomPro(掃描式電子顯微鏡)是Phenom(飛納)產品中zui*的型號,在繼承了Phenom(飛納)*代(G1)產品操作方便、30秒快速成圖像、售后無憂
  • 2016

    05-13

    自動拼圖軟件(AIM)在SEM大景深樣品拍攝中的應用

    自動拼圖軟件(AIM)在SEM大景深樣品拍攝中的應用圖1自動拼圖軟件界面自動拼圖(AutomatedImageMapping)軟件(圖1)選件是飛納電鏡的又一功能強大的實用軟件。其主要優(yōu)勢總結如下:大范圍內自動收集多張圖片生成大面積視野的圖片自動生成高分辨率、高清晰度大圖操作簡單,“選擇區(qū)域”然后“掃描”即完成以下舉例說明其各個優(yōu)勢及其應用場合:大范圍多張圖片的收集對于ParticleMetric顆粒系統(tǒng)、PoroMetric孔洞系統(tǒng)的作用下圖2(a)是顆粒樣品的AIM拼圖結果,這張圖的分辨率達
  • 2016

    05-12

    飛納臺式掃描電鏡為光子晶體光纖發(fā)展開辟新路

    飛納臺式掃描電鏡為光子晶體光纖發(fā)展開辟新路光子晶體光纖(PhotonicCrystalFibers,PCF)又稱為微結構光纖(Micro-StructuredFibers,MSF),這種光纖的橫截面上有較復雜的折射率分布,通常含有不同排列形式的小孔,如圖1所示。這些小孔的尺度與光波波長大致在同一量級且貫穿器件的整個長度,光波可以被限制在低折射率的光纖芯區(qū)傳播。圖1不同結構的光子晶體光纖光子晶體光纖(微結構光纖)按照其導光機理可以分為兩大類:折射率導光型(IG-PCF)和帶隙引導型(PCF)。折射
  • 2016

    05-11

    高倍光學電子顯微鏡

    高倍光學電子顯微鏡飛納熒光掃描電鏡一體機Delphi(德飛),是飛納掃描電鏡制造商荷蘭Phenomworld公司與熒光顯微鏡制造商荷蘭Delmic于2014年聯(lián)合推出的*款將熒光顯微鏡和掃描電鏡高度集成在一起的設備。借助該設備,用戶可把光學顯微鏡所包含的豐富信息和掃描電鏡所*的超高分辨率結合在一起,觀察研究樣品納米尺度范圍的動態(tài)過程,定位細胞和有機體中所發(fā)生的特定事件。通過在熒光圖像中疊加掃描電鏡圖像,實現(xiàn)在一張圖像中同時得到樣品精細結構和功能物質的信息。簡單地說,Delphi(德飛)就是底部裝
  • 2016

    04-27

    掃描電子顯微鏡基礎知識

    掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆粒,成像信號可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是zui主要的成像信號。由電子槍發(fā)射的能量為5~35keV的電子,以其交叉斑作為電子源,經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細電子束,在掃描線圈驅動下,于試樣表面按一定時間、空間順序作柵網(wǎng)式掃描。聚焦電子束與試樣相互作用,產生二次電子發(fā)射(以及其它物理信號),二次電子發(fā)射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號被探測器收集轉換成電訊號,經視頻放
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