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2025
07-25

勻膠旋涂?jī)x由哪些部分組成？
勻膠旋涂?jī)x通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展，形成納米至微米級(jí)厚度的薄膜。勻膠旋涂?jī)x的構(gòu)成：1、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)：放置基底的核心部件，通常采用真空吸附或機(jī)械夾持固定基底，材質(zhì)多為耐腐蝕金屬或陶瓷。2、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)：由高精度電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可準(zhǔn)確控制旋轉(zhuǎn)速度和加速度，確保轉(zhuǎn)速穩(wěn)定。3、控制系統(tǒng)：通過(guò)微處理器或PLC實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制，可預(yù)設(shè)旋轉(zhuǎn)程序，部分機(jī)型支持觸摸屏操作和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。4、防護(hù)裝置：包括透明防護(hù)罩、廢液收集槽，部分機(jī)型配備通風(fēng)系統(tǒng)。5、滴膠輔助裝置：部分設(shè)備集成自動(dòng)滴膠系統(tǒng)，可精準(zhǔn)
2025
06-25

烤膠機(jī)的應(yīng)用與操作規(guī)范
烤膠機(jī)是一種是一種設(shè)計(jì)為準(zhǔn)確控溫、準(zhǔn)確計(jì)時(shí)、高熱均勻性的高性能實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)定時(shí)控溫烤膠操作，主要用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化?？灸z機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體制造：用于前烘、堅(jiān)膜等關(guān)鍵工序，通過(guò)準(zhǔn)確控溫保障芯片制造精度。其均勻加熱特性可避免傳統(tǒng)烘箱導(dǎo)致的膠膜分層問(wèn)題，提升良品率。2、納米薄膜制備：適用于半導(dǎo)體硅片、載玻片、ITO導(dǎo)電玻璃等表面涂覆后的薄膜烘干固化，通過(guò)"由內(nèi)而外"的加熱方式解決厚膜樹(shù)脂固化中的氣泡問(wèn)題。3、工業(yè)粘接領(lǐng)域
2025
04-26

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的日常維護(hù)
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的維護(hù)方法：1.定期清潔內(nèi)、外表面。使用合適的清潔劑和軟布清潔真空室、電極、離子源和其他關(guān)鍵部件。2.定期校驗(yàn)設(shè)備的各種參數(shù)和傳感器，以保證其準(zhǔn)確性和精度。校準(zhǔn)包括離子束能量、離子束均勻性、氣體流量、射頻功率等參數(shù)的檢查和調(diào)整。3.使用過(guò)程中，要注
2025
03-27

紫外臭氧清洗機(jī)在選購(gòu)時(shí)可參考哪些方面？
紫外臭氧清洗機(jī)是一款用于無(wú)機(jī)基材表面有機(jī)污染物去除的表面清洗設(shè)備，能夠簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。紫外臭氧清洗機(jī)的選購(gòu)注意要點(diǎn)：1.清洗面積：根據(jù)實(shí)際需要清洗的基片或物品的大小，選擇具有合適有效清洗面積的清洗機(jī)。2.清洗效果：關(guān)注清洗機(jī)的UV光波長(zhǎng)、照射強(qiáng)度以及燈管類(lèi)型等參數(shù)，這些參數(shù)直接影響清洗效果。3.燈管壽命：燈管是紫外臭氧清洗機(jī)的核心部件之一，其壽命直接影響設(shè)備的使用成本和維護(hù)頻率。選擇具有較長(zhǎng)燈管壽命的清洗機(jī)，可以降低更換燈管的頻率和成本。4.安全防護(hù)：確保清洗機(jī)具有完善的安全防護(hù)
2025
02-28

粉體等離子清洗機(jī)的工作原理是什么？
粉體在生產(chǎn)和加工過(guò)程中，往往會(huì)附著一些難以清洗的污垢和氧化物，這些污垢和氧化物會(huì)影響粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)能夠通過(guò)等離子體的化學(xué)反應(yīng)原理，將這些污垢和氧化物分解并清洗掉，從而提高粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)就是在常規(guī)等離子清洗機(jī)真空腔內(nèi)，放置可旋轉(zhuǎn)并帶攪拌的樣品瓶，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，作用在樣品瓶?jī)?nèi)粉體樣品上，通過(guò)等離子體轟擊被清洗粉體材料表面，改變材料表面性質(zhì)，優(yōu)化材料表面性能。等離子體作用在粉體上，可以有目的地改變粉體的物理
2024
12-05

掃描電鏡等離子清洗機(jī)是怎么工作的？
掃描電鏡等離子清洗機(jī)是一款專(zhuān)為掃描電子顯微鏡（SEM）樣品準(zhǔn)備而設(shè)計(jì)的高效清洗設(shè)備。該機(jī)利用等離子體技術(shù)，通過(guò)活性氣體的激發(fā)，去除樣品表面的有機(jī)污染物和微塵，確保樣品在顯微觀察中的清潔和高質(zhì)量成像。掃描電鏡等離子清洗機(jī)的工作原理主要基于等離子體的化學(xué)反應(yīng)和物理作用。通過(guò)高頻電磁場(chǎng)激發(fā)工作氣體，使氣體分子電離并產(chǎn)生高能等離子體。這些等離子體在電場(chǎng)作用下獲得足夠的能量，與周?chē)臍怏w分子發(fā)生碰撞，進(jìn)一步產(chǎn)生更多的高能活性粒子。這些高能粒子與待處理材料表面進(jìn)行碰撞，將表面附著的污染物撞擊并脫離表面，從而
2024
11-07

紫外臭氧清洗機(jī)的維護(hù)建議
紫外臭氧清洗機(jī)是一款用于無(wú)機(jī)基材(比如：石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁等)表面有機(jī)污染物去除的表面清洗設(shè)備。其工作原理是利用紫外線和臭氧的機(jī)理來(lái)清洗、除臭、消毒、殺菌。通過(guò)紫外線產(chǎn)生光解反應(yīng)，產(chǎn)生的自由基和臭氧分子可以分解有機(jī)污染物，同時(shí)紫外線殺菌也能夠殺死空氣中的細(xì)菌和病毒。加強(qiáng)日常紫外臭氧清洗機(jī)的維護(hù)可以有效預(yù)防故障的發(fā)生，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。日常維護(hù)事項(xiàng)如下：1、定期更換紫外燈管：建議每12個(gè)月或根據(jù)設(shè)備使用說(shuō)明書(shū)中的建議時(shí)間進(jìn)行更換。2、定期清洗設(shè)備：保持電極的純度和一定的濕度。
2024
10-10

微波消解罐使用過(guò)后怎么清洗？
微波消解罐具有操作簡(jiǎn)便，安全可靠，牢固耐用的優(yōu)點(diǎn)。由抗酸、堿的聚四氟乙烯制作，化學(xué)穩(wěn)定性好。材料純凈，不會(huì)給痕量元素的測(cè)定帶來(lái)污染?？捎糜诠I(yè)，農(nóng)業(yè)，環(huán)保，衛(wèi)生檢驗(yàn)，冶金，地質(zhì)，化工等部門(mén)各種試樣的消解。微波消解罐采用密封式設(shè)計(jì)，釜體與釜蓋擰緊即可起到密封作用，密封效果長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)泄漏，能夠有效地避免樣品溢出和揮發(fā)物的釋放。外形美觀、使用方便，只需將反應(yīng)物置于釜體內(nèi)，并保證加料系數(shù)小于0.8，即可進(jìn)行消解反應(yīng)。CIFPTFE微波消解罐專(zhuān)為濕法消解樣品而設(shè)計(jì)，容量50mlPTFE消解罐常用。罐體材料
2024
09-10

狹縫擠出式旋涂機(jī)的工作過(guò)程是怎樣的？
狹縫涂布技術(shù)利用精密機(jī)械加工所制作的模塊，由涂布模具相對(duì)于基片作準(zhǔn)確運(yùn)動(dòng)，通過(guò)控制速率、精密計(jì)量和泵送工藝流體,將液體化學(xué)材料擠出涂布于移動(dòng)的基板(玻璃、不銹鋼和塑料等)上形成薄膜。涂膜厚度可由液體流量與基板移動(dòng)速度直接計(jì)算，其優(yōu)點(diǎn)為涂膜均勻性高、可適用的涂料黏度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。狹縫擠出式旋涂機(jī)是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對(duì)基材進(jìn)行非接觸式涂布的設(shè)備。狹縫擠出式旋涂機(jī)利用狹縫擠出技術(shù)，將涂料通過(guò)精確控制的狹縫均勻地涂布在旋轉(zhuǎn)的基材上。這種技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)高均勻性、高精度的
2024
08-09

真空趕酸系統(tǒng)由哪幾部分構(gòu)成？
實(shí)驗(yàn)室趕酸過(guò)程中產(chǎn)生的酸氣處理是一項(xiàng)重要工作，真空趕酸系統(tǒng)是一種高效、靈活、安全且智能化的實(shí)驗(yàn)室樣品前處理設(shè)備。尤其在微波消解后的趕酸處理階段發(fā)揮著重要作用。真空趕酸系統(tǒng)主要由以下三部分組成：1、石墨加熱系統(tǒng)：負(fù)責(zé)加熱趕酸過(guò)程，采用石墨加熱槽進(jìn)行加熱，保證溫度的準(zhǔn)確性、均勻性和穩(wěn)定性。這種加熱方式能夠有效控制溫度，避免樣品因過(guò)熱而損壞。2、真空收集系統(tǒng)：為整個(gè)系統(tǒng)的密閉部分，由隔膜真空泵提供真空負(fù)壓運(yùn)行。通過(guò)抽真空加速酸蒸汽的形成和轉(zhuǎn)移，將樣品中的酸蒸汽通過(guò)冷凝、堿液中和、活性炭吸附等方式收集，
2024
07-12

紫外臭氧清洗機(jī)與其他的清洗方式相比好在哪里？
紫外臭氧清洗機(jī)是一種結(jié)合了紫外線和臭氧的清洗設(shè)備，它利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用，能夠高效殺滅細(xì)菌和消除異味，同時(shí)去除物體表面的污垢和有機(jī)污染物。相較于傳統(tǒng)清洗方法，紫外臭氧清洗機(jī)不會(huì)產(chǎn)生有害物質(zhì)，也不會(huì)對(duì)人體造成直接傷害(但需注意防護(hù)措施，避免紫外線和臭氧的直接暴露)。同時(shí)，它配置了安全傳感器，能夠避免臭氧環(huán)境污染和紫外線對(duì)操作者的暴露。在清洗過(guò)程中減少了水資源的浪費(fèi)和化學(xué)物質(zhì)的排放，對(duì)環(huán)境友好。此外，其自動(dòng)化程度高，能夠減少人工操作和勞動(dòng)強(qiáng)度，從而在一定程度上節(jié)約了能源。與干法清洗相比，紫外臭
2024
06-24

勻膠旋涂?jī)x的操作步驟
勻膠旋涂?jī)x是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠。勻膠旋涂?jī)x的使用步驟：1、開(kāi)機(jī)前準(zhǔn)備：清理殘余物，選擇合適的吸盤(pán)，并將樣品放在吸盤(pán)正中央。2、開(kāi)機(jī)與設(shè)定：打開(kāi)電源，設(shè)定涂布的時(shí)間和轉(zhuǎn)速，并啟動(dòng)真空吸附。3、涂布：滴加光阻劑，并啟動(dòng)涂布過(guò)程。4、完成涂布后，關(guān)閉真空和電源，取下樣品。本公司提供的L2001勻膠旋涂?jī)x操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，占地面積小，節(jié)省超凈間
2024
05-22

臭氧中和器的工作流程
臭氧是一種由三個(gè)氧原子組成的氣體，具有強(qiáng)烈的氧化性和殺菌能力。臭氧中和器是紫外臭氧清洗機(jī)配套的臭氧去除設(shè)備，其主要作用是通過(guò)納米級(jí)金屬氧化物催化劑分解臭氧，并利用臭氧的不穩(wěn)定性加速臭氧快速流動(dòng)，從而達(dá)到快速去除臭氧的目的。該設(shè)備采用沒(méi)有毒、不燃燒、活性高、壽命長(zhǎng)的納米級(jí)金屬氧化物的臭氧分解催化劑，能在室溫狀態(tài)下將高濃度的臭氧快速分解為氧氣。采用大流量、高負(fù)壓、低噪音無(wú)刷隔膜泵加速臭氧流動(dòng)，使得臭氧分解更*全。本公司提供的CIF臭氧中和器(UVO-N)裝置大多采用無(wú)聲放電原理制成，即在兩個(gè)高壓電極
2024
04-26

注意紫外臭氧清洗機(jī)的清洗流程
紫外臭氧清洗機(jī)是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤(pán)上，關(guān)上艙門(mén)，設(shè)置時(shí)間，按下運(yùn)行按鈕，就可以在幾分鐘內(nèi)，快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材上的有機(jī)污染物，為您提供超潔凈的表面。通過(guò)使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧，將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而沒(méi)有痕跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級(jí)的清潔表面并且不會(huì)損壞樣品。雖然紫外臭氧清洗機(jī)具有許多優(yōu)點(diǎn)，但在使用過(guò)程中仍需注意安全問(wèn)題。例如，避免直接暴露于紫外線下，以免對(duì)人體造成傷害。此外，對(duì)于某些特殊材料或物品，可能需要在使
2024
03-25

亞沸酸蒸清洗器的工作過(guò)程
亞沸酸蒸清洗器是一種自動(dòng)、密閉、酸蒸汽清洗方法。通過(guò)內(nèi)置可控溫加熱系統(tǒng)，利用亞沸狀態(tài)下產(chǎn)生的超凈酸蒸汽，安全高效地對(duì)所有可溶于酸中的任何痕量金屬污染物進(jìn)行超凈清洗。清洗原理：高純酸蒸汽在清洗倉(cāng)內(nèi)單向冷凝、飽和回流，帶走器皿內(nèi)外表面離子殘留，經(jīng)過(guò)超純水噴淋沖洗、烘干后，滿足痕量分析本底的要求。亞沸酸蒸清洗器通過(guò)內(nèi)置可控溫的加熱系統(tǒng)加熱酸，在亞沸狀態(tài)下產(chǎn)生高純酸蒸氣，對(duì)痕量分析所使用的各種微波消解罐，各種常壓消解罐，玻璃器皿(試管、燒杯、容量瓶等)，石英材質(zhì)實(shí)驗(yàn)容器以及ICP霧化室和火焰管等進(jìn)行亞沸
2024
01-30

勻膠旋涂?jī)x有哪些應(yīng)用？
勻膠旋涂?jī)x在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使膠液均勻涂覆在基片上，旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間、膠液和基片間的粘滯系數(shù)都會(huì)影響成膜厚度，旋轉(zhuǎn)過(guò)程及轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)的穩(wěn)定性對(duì)成膜質(zhì)量也有較大影響。工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠(Sol-Gel)實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。勻膠旋涂?jī)x的應(yīng)用：1.電子行業(yè)：可用于印刷電路板、LCD顯示器、OLED顯示器等電子產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中，能夠精確地涂布膠片或
2023
12-28

使用全自動(dòng)酸蒸清洗機(jī)的好處
潔凈的實(shí)驗(yàn)室器皿對(duì)于痕量金屬分析很重要。傳統(tǒng)的清洗方法是把實(shí)驗(yàn)室容器置于酸缸或熱酸中浸泡數(shù)小時(shí)甚至更長(zhǎng)時(shí)間。這種方法不僅效率低、易造成大量的酸消耗，而且為了避免帶來(lái)交叉污染，需要定期更換酸，否則將給實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)帶來(lái)巨大的風(fēng)險(xiǎn)。全自動(dòng)酸蒸清洗機(jī)是集酸蒸清洗、超純水沖洗、烘干于一體的設(shè)備。全自動(dòng)酸蒸清洗機(jī)主要是通過(guò)加熱產(chǎn)生高純酸蒸氣對(duì)器皿的反復(fù)對(duì)流和冷凝淋洗作用下完成的。能夠徹*地、安全地清洗痕量分析所使用的各種微波消解罐，常規(guī)壓力消解的各種消解罐，玻璃，石英材質(zhì)實(shí)驗(yàn)容器以及用于ICP的霧化室和火焰管等
2023
11-13

等離子表面處理儀的工作原理
等離子表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。在于對(duì)物體表面處理，清洗、改性、刻蝕等；解決用戶不同的表面處理需求。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性“組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。等離子體表面處理儀就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。該設(shè)備憑借等離子體中活性粒子的“活化作用”來(lái)使得將物
2023
10-16

智能真空趕酸儀與其它趕酸設(shè)備比好在哪里？
智能真空趕酸儀用于各類(lèi)食品、農(nóng)產(chǎn)品、礦樣、金屬、鋼鐵等樣品的高效消解，同時(shí)可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，以進(jìn)行下一步準(zhǔn)確定量。具有自動(dòng)高溫?cái)嚯姳Ｗo(hù)功能，具有時(shí)間設(shè)置自動(dòng)關(guān)閉功能，其中酸收集瓶冷卻系統(tǒng)：可快速降低抽出酸氣溫度，被堿液吸收，沒(méi)有污染。真空趕酸儀采用分體式模塊設(shè)計(jì),包含石墨加熱器、恒溫控制器、真空泵、凝冷器，收集瓶等技術(shù)。石墨加熱器立體加熱，將酸變成酸蒸汽，在真空負(fù)壓系統(tǒng)的作用下快速轉(zhuǎn)移到回收系統(tǒng)，以達(dá)到快速趕酸節(jié)約時(shí)間，由于每個(gè)樣品都是在獨(dú)立空間中完成提供儀器分析精度和重復(fù)性。智
2023
09-21

推薦您使用紫外臭氧清洗機(jī)的原因有哪些？
紫外臭氧清洗機(jī)是一款臺(tái)式的紫外臭氧清洗設(shè)備。通過(guò)紫外線和臭氧清洗基材表面，能夠簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。能去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘。使用該設(shè)備清洗的好處有：1、是一種無(wú)接觸方式，可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。2、可清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。3、沒(méi)有溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問(wèn)題。4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高

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