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2022
09-08

石墨電熱板面臨怎么樣的市場挑戰(zhàn)
石墨電熱板顧名思義就是采用石墨材料制作而成的一款消解設備，具有石墨材質的化學特性，耐用，防腐，傳熱速度快等。石墨電熱板是在實驗電熱板和微波消解儀之后的一款產品，使用功能和作用與電熱板和微波消解儀一樣，都應用于實驗室樣品前處理之中。石墨電熱板面臨怎么樣的市場挑戰(zhàn)石墨電熱板具有樣品批量處理能力強，一次性可處理36至56個樣品，大大減少人力操作，節(jié)省時間；智能化程序操作，設定好消解處理步驟，一鍵啟動運行即可完成，并且可以遠程操控，讓實驗人員遠離實驗的酸氣和加熱體的熱量傷害；常溫常壓的工作環(huán)境也無需擔心
2022
09-08

轉瓶等離子清洗機在運行時應該要注意哪些呢？
轉瓶等離子清洗機也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。轉瓶等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。那么等離子清洗機在運行時應該要注意哪些呢？下面就由轉瓶等離子清洗機廠家來給大家講講吧：1、正確設置等離子設備的運行參數(shù)，按時設備使用說明書來執(zhí)行；2、保護好等離子體的點火裝置，以確保等離子清洗機可以正常的啟動；3、
2022
09-08

勻膠旋涂儀的工作流程概述
勻膠旋涂儀是把膠均勻地涂在基片上的一種機器。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。勻膠旋涂儀的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。2、勻膠轉速是勻膠過程中重要的因素?；霓D速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運動速度。膜厚在很大程
2022
08-09

等離子清洗機如何對粉體進行處理？
等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子體作用在粉體上，可以有目的地改變粉體的物理化學性質，在保持粉體原有性能的前提下，賦予其表面新的性能，使其表面性質由疏水性變?yōu)橛H水性或由親水性變?yōu)槭杷裕瑥亩纳品垠w粒子表面的浸潤性，增強粉體粒子在介質中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有機化合物中。等離子清洗機對粉體進行處理過程有以下三個方面：1、等離子體處理是為了提高粉體的親水性，其主要工藝是利用He、Ar和O2、CO2、NH3等反應氣體在粉體表面進行物
2022
07-15

石墨電熱板在使用時這些事項要注意
石墨電熱板的面板采用耐酸堿、耐高溫的石墨材料，與其它產品相比，更具抗腐蝕、耐高溫的特點。適用于工礦企業(yè)、醫(yī)療衛(wèi)生、生化、科研等單位實驗室做化學分析，物理測定，熱處理等物品的烘培，干燥和作其它溫度試驗。使用注意事項：1、使用之前先把石墨電熱板上的殘留污漬用抹布清洗干凈，保證石墨電熱板表面沒有殘留的污垢異物等。2、清理完畢后在石墨電熱板上放置需要實驗的燒杯、器皿等。然后打開石墨電熱板開關，當電熱板處于工作狀態(tài)時開始實驗即可。3、在設備工作過程中實驗人員盡量不要遠離石墨電熱板，這樣可以避免一些危險狀況
2022
05-10

等離子清洗機的工作流程
隨著社會的發(fā)展及技術的需要，工業(yè)生產對生產材料的要求也不斷增強，如在微電子封裝工藝中，電子設備的小型化、高精度，對封裝工藝的可靠性提出了相應的要求，高質量的封裝技術可以提高電子產品的使用壽命。等離子清洗機是利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質
2022
04-13

等離子表面處理儀的作用及用途
等離子體是由被剝奪部分電子后的原子及原子團電離產生的離子化氣體狀物質，具有比氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)物質都高的能量范圍，被稱為物質的第四態(tài)。等離子體是由離子、電子和中性粒子組成的中性集合體，在與材料表面撞擊時會將自己的能量傳遞給材料表面的分子和原子，產生一系列物理和化學過程。一些粒子還會注入到材料表面引起碰撞、散射、激發(fā)、重排、異構、缺陷、晶化及非晶化，從而改變材料的表面性能。等離子表面處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài)，利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、
2022
03-31

CIF真空趕酸系統(tǒng)隆重上市！----40分鐘搞定酸氣清除！
號外！號外！美國CIF公司真空趕酸系統(tǒng)隆重上市啦！看長相一目傾心！看設計無瑕，看質量!CIF真空趕酸系統(tǒng)將傳統(tǒng)的常壓趕酸所需的3-4小時縮短到30-40分鐘（150度），大大提高趕酸效率，縮短了趕酸時間。另外，CIF整個真空趕酸系統(tǒng)為密閉系統(tǒng)，由隔膜真空泵提供真空，負壓運行，將樣品中酸蒸汽通過冷凝、堿液中和活性炭吸附等方式收集，不外排！直到把酸氣趕到實驗要求允許的量，避免了高濃度酸液對精密分析儀器損壞，延長了儀器的使用壽命，保證了實驗室人員安全，減少了環(huán)境污染。CIF真空趕酸系統(tǒng)產品特點：CIF
2022
03-23

高壓消解罐在使用時的注意事項有哪些？
高壓消解罐又叫水熱合成反應釜，是化學實驗室常用的小型高壓消解反應器。主要用于快速消解難溶樣品，也可用于少量的合成反應。在密閉環(huán)境中，樣品在強酸強堿和高溫高壓同時作用下達到快速消解之目的。高壓消解罐是利用罐體內高溫高壓密封體系(強酸或強堿)的環(huán)境來達到快速消解難溶物質的目的，可使消解過程大為縮短，且使被測組份的揮發(fā)損失降到*小，提高測定的準確性。高壓消解罐具有外形美觀，結構合理，操作簡便，抗腐蝕性好等特點，消解效率高,能力強,能消解許多傳統(tǒng)方法難以消解的樣品。是高校實驗室、環(huán)境監(jiān)測，質量監(jiān)督等科研
2022
02-11

勻膠旋涂儀在使用過程中的使用注意事項
勻膠旋涂儀操作簡單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案?？捎糜趯嶒炇翼椖拷ㄔO.作為用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學之用。勻膠旋涂儀的使用注意事項：1.使用前主要檢查設備與真空泵和氮氣瓶的接口是否漏氣；2.實驗時，依次打開設備電源開關，氮氣/干燥氣體瓶閥門，真空開關，結束時，先關真空，再關氮氣/干燥氣體瓶閥門；3.氮氣/干燥氣體的壓力控制不宜過大建議氮氣瓶氣壓從0.35MPa起緩慢上調，直至設備控制面板上的CDA停止閃爍即停止調整；
2022
01-14

紫外臭氧清洗機的保養(yǎng)技巧
紫外臭氧清洗機提供一種簡單，經(jīng)濟,快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機污染物。作用是通過紫外光和臭氧將襯底表面的油脂和有機物氧化祛除，以達到清潔的效果。同時改變了襯底表面的親疏水性，優(yōu)化墨水在襯底上的打印效果。紫外臭氧清洗機的保養(yǎng)事項：1、在干燥通風平穩(wěn)的位置安放設備。2、在對設備使用的過程，需要特別留心，不要對產品進行隨意地挪動或者不能夠將紫外臭氧清洗機的上蓋打開，從而防止導致溢水的情況發(fā)生。3、在對設備使用結束以后，為了防止機器內部
2021
12-14

來了解下等離子清洗機的清洗原理
固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)是人們每時每刻所感知的三種物質狀態(tài)，這三種狀態(tài)的物質是由原子和分子構成。通過輸入能量(如熱量)，可實現(xiàn)物質從一種狀態(tài)轉化為另一種狀態(tài)。當氣態(tài)物質被進一步加熱到更高的溫度時，或是氣體在受到高能量的照射后，氣體物質就轉化為第四態(tài)，即等離子體態(tài)。在這種狀態(tài)下，部分氣體原子已解離成電子和離子，也有一些在吸收能量后變成具有化學活性的亞穩(wěn)態(tài)原子。在這種狀態(tài)中，不但包含有一定能量的中性原子和分子，而且還有相當量的帶電粒子、一定量的帶有化學活性的亞穩(wěn)態(tài)原子和分子。電離出的自由電子總的負電量與正離
2021
05-31

亞沸蒸餾酸純化系統(tǒng)的優(yōu)點及原理
隨著ICP-MS、GC-MS等痕量、超痕量檢測技術的廣泛應用，人們發(fā)現(xiàn)試劑不純帶來空白值高的問題已經(jīng)制約了這些痕量檢測技術的實際應用。同時，一些高純的金屬、半導體和其他材料領域，也對試劑的純度提出了更高的要求。為此，人們開始尋求各種試劑純化技術和設備，以獲得高純度的試劑，分析化學領域的科學家們也越來越來重視高純酸的再純化。亞沸蒸餾酸純化系統(tǒng)滿足您對痕量元素分析的所有需求。該設備是一款集純化、消解、趕酸、和清洗為一體的多功能的小型實驗室設備，既可用于實驗室酸、堿溶液和有機溶劑的純化，也可以用做微型
2021
05-12

紫外臭氧清洗機為什么使用廣泛？
隨著光電子產業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產品中是不會缺少的工藝，清洗對產品的質量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。如何保證產品的高可靠性和高成品率，且同時保證生產的安全性及生產過程中對環(huán)境的保護?那么，對使用者來說選擇高潔凈度，且又具有安全、環(huán)保性能的清洗設備尤為重要，在以往的清洗技術(化學清洗和物理清洗)中，很難達到要求。那在又安全又環(huán)保的前提下，如何*清除物體表面的污物?目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗，它能避免由于使用有機溶劑造成的污染，同時能夠將清洗過程縮短。紫外臭氧清洗機
2021
05-08

為使勻膠旋涂儀達到預期的效果，在使用時應注意這幾點
勻膠旋涂儀快速啟動和穩(wěn)定的轉速，能夠保證膠厚度的一致性和均勻性。主要用于微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使用。適用于半導體工藝，制版及表面涂覆等工藝，可在科研、教育等單位作科研、教學之用。勻膠旋涂儀的使用注意事項：1、在開機前，要抬起控制鍵以及吸片鍵，將電源開啟以后，分別將各鍵按下進行操作，從而使沒有啟動電機就轉動得以避免。2、片子尺寸不一樣，選用的片托的尺寸也不一樣，厚度低于1.5毫米的片子對帶吸氣槽的片托進行選用，厚度高于1.5
2021
04-27

紫外臭氧清洗機的應用范圍
紫外臭氧清洗機在工作時是給臭氧發(fā)生器供電，臭氧發(fā)生器產生臭氧，由臭氧泵通過臭氧管輸送到洗菜機的洗滌桶中，在洗滌桶中與水機接觸，溶解在水中形成臭氧水，臭氧水具有很強的殺菌、消毒，降解農藥作用。使用過后可將產品表面清洗處理的均勻度一致，可*清除物體表面的碳和有機污染物，保證產品的高可靠性和高成品率。紫外臭氧清洗機的應用領域有：1、主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法較為合適。2、主要材料:IT0玻璃、
2021
04-25

真空趕酸系統(tǒng)是怎么進行工作的？
在面對微波消解完趕酸過程中經(jīng)常遇到的趕酸時間長、酸腐蝕嚴重存在的問題，使用真空趕酸系統(tǒng)可以把原來的趕酸時間從原來的3-4個小時縮短到30-40分鐘之間，大大提高趕酸效率，并且通過堿液吸收，可避免酸氣的腐蝕，杜絕污染。真空趕酸系統(tǒng)采用集成式優(yōu)化設計系統(tǒng)包括真空回收系統(tǒng)、石墨加熱器兩大部分組成。石墨加熱器產生高溫加熱樣品，將樣品中酸蒸成酸蒸氣由真空泵抽到堿液收集瓶子中直到把酸氣趕到實驗室允許的量，避免高濃度酸夜損壞儀器。真空系統(tǒng)加速蒸汽的形成和轉移，從而節(jié)省趕酸時間，由于每個樣品都是在獨立空間中完成
2021
04-23

酸蒸逆流清洗器的工作原理
潔凈的樣品前處理容器是獲得可靠分析結果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對于實驗室人員來說，始終是一個非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。使用酸蒸逆流清洗器可以解決這些問題。酸蒸逆流清洗器能大大提高清洗效率，縮短清洗時間，終端酸過濾回收系統(tǒng)，可在密閉條件下進行酸蒸餾超清洗，有效防止實驗室污染。酸蒸逆流清洗器的工作原理利用酸亞沸狀態(tài)，產生純凈酸蒸汽。通過自然冷凝酸蒸汽與器皿表面接觸凝結成液珠，在重力條件下回流到桶內，反復循環(huán)。將器皿表面的金屬離子
2021
04-20

紫外臭氧清洗機的使用注意事項
紫外臭氧清洗機在現(xiàn)代信息技術行業(yè)中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產領域。紫外臭氧清洗機提供一種簡單,經(jīng)濟，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機污染物。在使用紫外臭氧清洗機時應注意以下事項：1、嚴格按機器規(guī)定加工范圍內加工木料，否則將導致機器損壞和工作人員傷害，固化機應有適當屏敝裝備，紫外光不易透出。2、適當?shù)膫€人防護，穿長袖衣服、布工作手套，戴防紫外線眼鏡、面罩
2021
04-09

影響勻膠旋涂儀勻膠效果的因素有哪些？
勻膠旋涂儀可用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學之用高精度涂敷。影響勻膠效果的因素有勻膠速度、勻膠加速度、控制精度等因素。勻膠轉速：基片的轉速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉速所決定。尤其在高速旋轉這個階段，轉速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發(fā)

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