納米壓印光刻機(jī)SMILE制作微光學(xué)器件的納米壓印光刻系統(tǒng),也是晶圓級(jí)相機(jī),圖像傳感器生產(chǎn)中所需的設(shè)備。納米壓印光刻機(jī)SMILE可在其掩模對(duì)準(zhǔn)器平臺(tái)上進(jìn)行大面積圖案化。
微圖案化應(yīng)用
光學(xué)定制的抗蝕劑以水坑的形式分布在表面上基板表面。通過移動(dòng)與基板接觸的基板抗蝕劑在基底之間徑向擴(kuò)散填充印章的3D圖案。
最大晶圓尺寸：200mm
壓印面積：200mm
結(jié)構(gòu)分辨率：從mm級(jí)到<100nm
納米圖案化應(yīng)用
柔性印模在中心彎曲，并與涂有抗蝕劑的基材接觸。接觸波徑向延伸至基板的外邊緣。作為最終結(jié)果步驟：抗蝕劑固化（例如通過UV照射）。然后將堆疊分離，并將圖案的負(fù)片特征保留在基底上的抗蝕劑中需要精確的楔塊誤差補(bǔ)償和間隙設(shè)置因此，壓印光刻的關(guān)鍵因素。SUSS掩模對(duì)準(zhǔn)器平臺(tái)提供主動(dòng)楔形誤差采用壓電線性電路的補(bǔ)償系統(tǒng)致動(dòng)器、高精度間隙測(cè)量系統(tǒng)和力檢測(cè)器。這實(shí)現(xiàn)了精確的橫向和軸向?qū)⒂∧?duì)準(zhǔn)基底。
最大晶圓尺寸：200mm
壓印面積：200mm
結(jié)構(gòu)分辨率：從mm級(jí)到<100nm
納米壓印光刻機(jī)亮點(diǎn)
+對(duì)抗蝕劑厚度和厚度的精確控制一致性
+任意襯底材料
+雙面圖案化能力
+高對(duì)準(zhǔn)精度
+邊緣處理或緩沖晶片以避免透鏡
+翹曲晶片處理

納米壓印光刻機(jī)結(jié)果