NLD-570-NLD干法刻蝕設(shè)備
2025-05-24
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研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
•NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。
•高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工,在形狀或表面平滑性方面有優(yōu)異的刻蝕性能。•石英及玻璃作為厚膜resist mask時的也可實現(xiàn)深度刻蝕(100μ m以上)。•可實現(xiàn)高速刻蝕(石英>1μ m/min、Pyrex>0.8μ m/min)•可追加cassette室。產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 光學(xué)器件(光衍射格子、変調(diào)器、光開關(guān)等等)、凹凸型微透鏡。流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶。
產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
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