MLA150

先進無掩膜激光直寫機 / 光刻機

The Advanced Maskless Aligner

適合研發(fā)團隊與中小批量生產的客戶

MLA150專屬為研發(fā)型以及中小批量生產的客戶而設計的激光直寫解決方案。

區(qū)別于過去傳統(tǒng)的工藝技術而開發(fā)的無掩膜激光直寫技術，將設計圖形直接曝光到涂覆有光刻膠的襯底材料上；

曝光后，如果需要修改圖形結構，可以直接通過CAD軟件修改原始圖形，然后重新曝光即可，無需花費重新制版的時間。

主要產業(yè)應用有：生命科學、微流體、MEMS、微光學、傳感器、材料研究等有微納米結構需求的科研領域。