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- 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限
簡介: CAPELLA系列探針臺支持從晶圓到封裝芯片級的所有LED產(chǎn)品類型(垂直芯片、橫向芯片、倒裝芯片)的電氣和光學(xué)表征。無論您是需要高性能、高性價比還是專業(yè)探針系統(tǒng)......
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簡介: SENTECH集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站......
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簡介: Veeco的GEN200®MBE系統(tǒng)是當今市場上具成本效益和高容量的多片4英寸生產(chǎn)MBE系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL和HBT等設(shè)備的生長中提供吞吐量、長時間的加......
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簡介: BeneqP800專門設(shè)計用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將P800用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜,以及在玻璃或金屬板上使用ALD的各種應(yīng)......
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簡介: EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束,通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能,可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機......
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簡介: 高能對應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400可達2400KeV的高能離子注入設(shè)備。......
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簡介: EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機,緊湊和高性能,使用ECR離子束可以進行納米蝕刻和沉積,制品特微。......
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簡介: 可對應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30低加速、高濃度對應(yīng)的離子注入設(shè)備。......
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