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- 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限
簡介: BeneqP800專門設(shè)計用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將P800用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜,以及在玻璃或金屬板上使用ALD的各種應(yīng)......
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簡介: EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束,通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能,可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機......
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簡介: 高能對應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400可達2400KeV的高能離子注入設(shè)備。......
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簡介: EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機,緊湊和高性能,使用ECR離子束可以進行納米蝕刻和沉積,制品特微。......
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簡介: 可對應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30低加速、高濃度對應(yīng)的離子注入設(shè)備。......
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簡介: AE物理氣相沉積平臺NexdepPVD在經(jīng)濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能,而不會占用實驗室的所有空間或預(yù)算。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求和/......
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簡介: 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD簡介:1.滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2.直徑200毫米的石英室3.內(nèi)部石英管的設(shè)計便于拆卸和清洗4.基片尺寸可達直徑15......
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簡介: 入門級手動探針臺,用于表面耦合和水平邊緣耦合FormFactor推出了一種具有成本效益的硅光子學(xué)測量解決方案,以支持新興應(yīng)用的基礎(chǔ)研究工作。該系統(tǒng)的設(shè)計是FormFa......
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