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公司名稱：

北京瑞科中儀科技有限公司

簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：化學(xué)氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空......

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北京瑞科中儀科技有限公司

簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB200根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，PECVDDepolab200可升級(jí)為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。......

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簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI500PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。......

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簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：等離子沉積設(shè)備SI500D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能......

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簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI500PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。......

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簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/......

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簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。......

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北京瑞科中儀科技有限公司

簡(jiǎn)介： 簡(jiǎn)要描述：原子層沉積設(shè)備：真遠(yuǎn)程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或......