化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機(jī)械設(shè)備>真空設(shè)備>真空應(yīng)用設(shè)備>DE350 SPUTTER 北京光電實(shí)驗(yàn)室DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)
DE350 SPUTTER 北京光電實(shí)驗(yàn)室DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)
- 公司名稱(chēng) DE TECHNOLOGY LIMITED 德儀科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) DE350 SPUTTER
- 產(chǎn)地 USA
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2015/12/26 21:08:10
- 訪問(wèn)次數(shù) 506
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Sputter 薄膜沉積系統(tǒng)
E-Beam 蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Thermal 蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
PLD 鍍膜系統(tǒng)
OLED 薄膜沉積系統(tǒng)
ALD 薄膜沉積系統(tǒng)
Sputter Sources 磁控濺射陰極
DC/RF Power Supply 直流/射頻電源
E-Beam Sources 電子束蒸發(fā)源
Thermal EVP Sources 熱蒸發(fā)源
Deposition Materials 濺射靶材和蒸發(fā)鍍膜材料
Sample Manipulator 樣品臺(tái)
Feedthroughs 電子穿導(dǎo)器件
Vacuum Valves 真空閥門(mén)
Vacuum Components 真空配件
- 前開(kāi)門(mén)濺射腔體
- 冷凝泵和干泵
- 1個(gè)6” 磁控濺射源
- 射頻電源
- 側(cè)面濺射
- zui大6”基片
- 基片水冷
- PID濺射壓力控制
- 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
- 高速率濺射二氧化薄膜
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