NPC-3500（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 那諾中國有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/4/28 8:10:57
- 訪問次數(shù) 2087
產(chǎn)品標簽
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 |
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Plasma Etcher等離子刻蝕機
NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)產(chǎn)品特點
- 緊湊型立式系統(tǒng)
- 自動上下載片
- 帶Load Lock
- 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
- 兼容100級超凈間使用
- 淋浴頭、ICP或微波等離子源
- 旋轉(zhuǎn)樣品臺
- RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
- 全自動或手動RF調(diào)諧
- z多可支持5個MFC帶電拋光的氣體管路
- PC計算機控制的氣動閥
- 帶密碼保護的多級訪問控制
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 機械泵的壓力可達到10mTorr
- 250 l/s的渦輪分子泵
- 極限真空為5x10-7Torr
- 完整的安全聯(lián)鎖
應用：
- 有機物以及無機物的殘留物去除
- 光刻膠剝離或灰化
- 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應用
- 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
- 提高黏附性，消除鍵合問題
- 塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能
- 產(chǎn)生親水或疏水表面
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