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GSC-1000 磁控濺射系統(tǒng)(鍍膜儀)
- 公司名稱 韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司
- 品牌
- 型號 GSC-1000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2018/8/21 9:41:11
- 訪問次數(shù) 772
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磁控濺射技術(shù)
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述:
帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺,最大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
GSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體,2個(gè)2"的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監(jiān)測儀(選配)。
產(chǎn)品特點(diǎn):
不銹鋼,鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵,串接機(jī)械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能
選配項(xiàng): Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測 | ![]() |
應(yīng) 用:
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