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GSC-1000 磁控濺射系統(tǒng)(鍍膜儀)

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產(chǎn)品標(biāo)簽

磁控濺射系統(tǒng)

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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國代表處,負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司,更好的為中國南方區(qū)市場

     

德國韋氏納米系統(tǒng)成立以來,一直為客戶想的更多,Thinking more ?。。?/p>

 

產(chǎn)品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等離子清洗機(jī),均膠機(jī),薄膜沉積,刻蝕

 

 

磁控濺射技術(shù)

GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述:

帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺,最大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

GSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體,2個(gè)2"的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監(jiān)測儀(選配)。

產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 不銹鋼,鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

  • 70l/s的渦輪分子泵,串接機(jī)械泵或干泵

  • 1KW DC直流電源

  • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

  • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制

  • 帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制

  • *的安全聯(lián)鎖功能

 

 

 

選配項(xiàng):
Thickness Monitor   膜厚監(jiān)測

應(yīng)   用:

  • SEM應(yīng)用

  • 濺射金屬,最大到6"的晶圓片

 



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