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JGP-800型磁控濺射鍍膜設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
產(chǎn)品標簽

膜設備

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真空應用設備、真空獲得設備、太陽能光伏裝備、工業(yè)化產(chǎn)品

產(chǎn)地類別 國產(chǎn)

設備用途
該產(chǎn)品可廣泛應用于半導體、LED和光伏等行業(yè),主要用于各種金屬、半導體及介質材料的薄膜制備,可滿足科研兼小批量生產(chǎn)需要。
設備組成
JGP-800型磁控濺射鍍膜設備該系統(tǒng)為單腔室結構,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量、水冷卻及報警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。
JGP-800型磁控濺射鍍膜設備系統(tǒng)由工控機和PLC實現(xiàn)控制,有自動和手動控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在觸摸屏上實現(xiàn);提供真空系統(tǒng)、濺射工藝設置、充放氣系統(tǒng)等人機操作界面;在工控機上可通過配方設置參數(shù),實現(xiàn)對程序工藝過程和設備參數(shù)的設置。



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