高光譜納米顯微成像系統(tǒng)NANO HNI是一種超高速且一體化的可定制高光譜納米顯微成像系統(tǒng)，具有高空間分辨率和光譜分辨率。*集成的系統(tǒng)可快速映射VIS-NIR-SWIR光譜范圍內(nèi)的漫反射，透射率，光致發(fā)光，電致發(fā)光和熒光。基于高通量全局成像濾波器，NANO HNI比基于掃描類型光譜儀的高光譜系統(tǒng)更快，更高效。

高光譜納米顯微成像系統(tǒng)NANO HNI的使用：

u 可在400至1700 nm范圍內(nèi)成像，帶寬為3 nm，能夠測量光電特性，如電壓開路和外量子效率，并可對材料中的缺陷進行準確的檢測和表征可進行復雜的材料分析，如太陽能電池特性以及半導體質(zhì)量控制，如鈣鈦礦, 砷化鎵, SiC碳化硅, CIS, CIGS 等；

u檢索暗場圖像，并獲得透明和未著色樣品（比如聚合物，晶體或活細胞）的對比度；

u研究包括活細胞和組織在內(nèi)的復雜的環(huán)境的紅外標記。以第二生物窗口中發(fā)射的紅外熒光團的光譜異質(zhì)性為例

產(chǎn)品優(yōu)勢

Ø快速全局映射（非掃描）

Ø高空間和光譜分辨率完整系統(tǒng)（光源、顯微鏡、照相機、過濾器、軟件）

Ø無損分析

Ø可根據(jù)客戶具體要求定制

Ø在可見光范圍內(nèi)靈敏度為400至1200納米，在SWIR范圍內(nèi)靈敏度為900至1700納米。