一站式微流控芯片實驗室包含的工作組件：
（1）可編程旋涂機(jī)

（2）可編程數(shù)碼電熱板

（3）可編程UV燈系統(tǒng)
包括所有化學(xué)藥品（SU-8，SU-8顯影液、Omnicoat、異丙醇、丙酮等）和所有實驗室配件（微量移液槍、計時器、玻璃器皿、封口膜、鑷子、金剛石刮板、硅片、玻璃載玻片、一次性杯子、攪拌棒等），以便為您提供完整的套件。
可編程旋涂機(jī)：適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

該旋涂機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，并且具有可編程功能。
它適用于直徑ø150 mm的晶圓和5” × 5”（127 mm × 127 mm）的基板。
此旋涂機(jī)經(jīng)過微調(diào)，可加工可控和可重復(fù)的SU-8光致抗蝕劑層。
其緊湊的尺寸和附加的小控制面板使該設(shè)備實現(xiàn)真正的移動。該旋涂機(jī)已廣泛應(yīng)用于SU-8光刻膠涂層。蓋子上的孔可以進(jìn)行動態(tài)SU-8涂覆。通過藍(lán)牙輕松連接到您的PC，您可以保存并命名您的實驗配方。
主要優(yōu)勢：
（1）為易用性設(shè)計
（2）易于通過操作面板或PC進(jìn)行編程
（3）能夠設(shè)置多種加速度和速度的復(fù)雜序列
（4）無堵塞，延長使用壽命
（5）低振動
（6）轉(zhuǎn)速高達(dá)12000 rpm
（7）提供晶圓對中工具
可編程數(shù)碼電熱板：適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

確保準(zhǔn)確、均勻且穩(wěn)定的溫度設(shè)定點。該數(shù)字式熱板設(shè)備可設(shè)置溫度斜坡以進(jìn)行加熱和冷卻。通過可編程控件使您的生活更加輕松，這些控件可以實現(xiàn)光刻過程的自動化。
可編程熱板的頂板和很大的加熱表面積使它具有足夠?qū)挼膮^(qū)域，溫度均勻，可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻膠。溫度斜坡使得能夠減小光致抗蝕劑層內(nèi)部的機(jī)械應(yīng)力?？删幊坦ぞ呖蛇M(jìn)行長時間的光刻膠烘烤，而無需停留在設(shè)備的面。
主要優(yōu)勢：
（1）加熱和冷卻的溫度斜坡曲線
（2）4英寸晶圓的高溫均勻性
（3）微處理器顯示屏保持溫度恒定
（4）小溫度超調(diào)
（5）自動計時器
（6）光滑的鋁板，易于清潔光刻膠
可編程UV燈系統(tǒng)：適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

*的UV LED曝光和遮罩系統(tǒng)（可選），具有365 nm或者385 nm波長的可用光源。這是一種非常緊湊的臺式系統(tǒng)，能夠?qū)χ睆酱鬄?英寸的晶圓表面積進(jìn)行曝光。該自動UV曝光系統(tǒng)與硬（物理）或軟（接近）掩膜觸點兼容，并具有可變的掩膜到基板距離的控制功能。
該UV曝光系統(tǒng)具有2μm的分辨率，特別適合軟光刻應(yīng)用。閃光曝光可以減少光刻膠的內(nèi)部機(jī)械應(yīng)力。其體積小巧，可將其安裝在所需的任何位置，尤其是在潔凈室之外。
主要優(yōu)勢：
（1）晶圓表面上方的wan美單色曝光（帶寬低于10 nm）
（2）冷紫外線
（3）光線發(fā)散角＜2°
（4）強(qiáng)大的功率密度
（5）LED使用壽命長：超過1萬小時，相當(dāng)于8-10年的使用時間
（6）用戶友好的觸摸屏界面，可進(jìn)行曝光周期編程
（7）無需預(yù)熱時間
（8）直觀的UV光源強(qiáng)度控制
（9）自動化晶圓加載和卸載系統(tǒng)
（10）可與玻璃和塑料光罩一起使用
（11）在4英寸晶圓上具有很高的紫外線均勻度
（12）集成紫外線儀表
更多內(nèi)容：
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由于每個實驗室都是不同的，因此，每個研究都是*的，所以我們會根據(jù)實際需求盡可能地調(diào)整報價。我們與您一起討論什么是效率高的設(shè)備，從而增加或刪除設(shè)備、配件、化學(xué)品等等。

微流控芯片PDMS加工實驗室空間方案圖