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PHI ADEPT 1010 動態(tài)二次離子質譜儀

具體成交價以合同協(xié)議為準

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


ULVAC-PHI是超高真空表面分析儀器供應商。專注于研發(fā)和生產表面分析儀器,包括光電子能譜儀(XPS)、俄歇電子能譜儀(AES)、飛行時間二次離子質譜儀(Tof-SIMS)和動態(tài)二次離子質譜儀(D-SIMS)。通過提供獨T的技術解決方案,幫助客戶解決各種具有挑戰(zhàn)性的問題,從而加速新產品和新技術的發(fā)展。產品應用領域包括納米技術、太陽能技術、微電子技術、存儲介質、催化、生物材料、藥品以及金屬、礦物、聚合物、復合材料和涂料等基礎材料。

作為唯1一家能夠同時提供高性能XPS、AESSIMS全系列表面分析儀器的制造商,ULVAC-PHI在全面性和完整性的表面分析解決方案領域擁有獨T的地位。

愛發(fā)科費恩斯(南京)儀器有限公司成立于202311月,創(chuàng)辦理念是為一.L的商業(yè)產品提供頂.J的創(chuàng)新市場營銷和售后服務。作為ULVAC-PHI在中國區(qū)域的子公司,負責PHI產品在中國的銷售和售后服務。主要客戶包括清華大學,復旦大學,上海交通大學,南京大學,西安交通大學,廈門大學,山東大學,吉林大學,華南理工大學,中南大學等國內知.M高校和科研院所。在全國各地都有銷售合作伙伴,能夠為您提供全.F位的服務。技術專員具備多年超高真空和精密電子分析儀器的使用經驗,致力于為合作伙伴提供最.J的產品和服務,以實現(xiàn)最.D的效益。


表面分析儀器

價格區(qū)間 面議 儀器種類 飛行時間
應用領域 化工,電子/電池,綜合

優(yōu)勢

ULVAC-PHI 最新設計的四極桿-二次離子質譜儀ADPT1010,在原有的PHI6300和PHI6600的基礎上,改善了離子光學系統(tǒng),是在一次離子能量低至250eV時,仍保持有效的濺射束流的動態(tài)二次離子質譜系統(tǒng)(D-SIMS)。

 

特點

  1. 大束流低能量離子槍設計,極大的提高了深度分辨率

  2. 高性能離子光學系統(tǒng),改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

  3. 高精度全自動5軸樣品操控臺

  4. 不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測

 

應用實例分析

采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下,分析GaAs中注入的H,C,O元素。可以看到H檢測限值7.1X1016 atm/cm3,O檢測限值4.4X1015 atm/cm3,C檢測限值2.0X1015 atm/cm3。

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