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customized 研磨拋光機

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研磨拋光機拋光機磨樣機磨拋機

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,建材/家具,汽車及零部件,綜合

一、產(chǎn)品概述:

研磨拋光機是一種用于材料表面處理的設(shè)備,能夠通過研磨和拋光過程提升樣品表面的光滑度和光澤度。該儀器廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、玻璃和半導(dǎo)體等材料的加工和制備。

二、設(shè)備用途/原理

·設(shè)備用途

研磨拋光機主要用于樣品的表面準(zhǔn)備和處理,以滿足顯微鏡觀察、材料測試和光學(xué)應(yīng)用的要求。工程師和技術(shù)人員可以利用該設(shè)備去除表面缺陷,改善材料的表面質(zhì)量,以確保后續(xù)測試的準(zhǔn)確性和可靠性。

·工作原理

研磨拋光機通過使用特定粒度的研磨材料在樣品表面施加壓力,逐步去除表面層以實現(xiàn)平整化。設(shè)備通常配備可調(diào)速的轉(zhuǎn)盤和不同類型的拋光墊,能夠適應(yīng)各種材料和處理需求。用戶可以根據(jù)樣品性質(zhì)和處理要求選擇合適的研磨和拋光工藝,以達(dá)到所需的表面平滑度和光澤。

三、主要技術(shù)指標(biāo):

1. 機器電源:100~240VAC, 50/60Hz, 單相

2. 電機功率 :1Hp [750W]

3. 盤直徑:8in [203mm], 10in [254mm]

4. 磨盤轉(zhuǎn)速:10~500rpm,調(diào)整增量 10rpm

5. 磨盤轉(zhuǎn)向:順時針或逆時針

6. 供水管:外徑 0.25in [6mm]

7. 供水壓力:40~100psi [25-60bar]




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