GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
品牌 天仁微納
型號
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/7/30 13:36:37
訪問次數(shù) 1229

產(chǎn)品標(biāo)簽

納米壓印光刻設(shè)備納米壓印設(shè)備 DOE加工工藝

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公司介紹 主營產(chǎn)品

青島天仁微納科技有限責(zé)任公司成立于2015年，是引新的納米壓印設(shè)備和解決方案提供商。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務(wù)。我們致力于拓展納米壓印技術(shù)在創(chuàng)新產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用，例如發(fā)光二極管（LEDs）、微納機(jī)電系統(tǒng)（MEMs/NEMs）、虛擬現(xiàn)實和增強(qiáng)現(xiàn)實光波導(dǎo)（AR Waveguides）、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。

展開

微納加工設(shè)備，配套材料，配套產(chǎn)品，相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)咨詢服務(wù)

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GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

GL8 MLA Gen2是一種專門為晶圓級光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

該設(shè)備支持從晶圓級母模具表面自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具具有精度高，壽命長等特點，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。內(nèi)置的點膠系統(tǒng)、APC（主動模具基底平行控制）技術(shù)、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學(xué)生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時，自動模具基底對位系統(tǒng)還可實現(xiàn)晶圓之間對位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL8 MLA納米壓印設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。