X射線檢測是利用X射線技術(shù)觀察、研究和檢驗(yàn)材料微觀結(jié)構(gòu)、化學(xué)組成、表面或內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷的實(shí)驗(yàn)技術(shù)。

X射線應(yīng)用于工業(yè)無損探測，主要原理是穿透被測物的X射線具有反映被測物內(nèi)部結(jié)構(gòu)的信息，人們通過X射線強(qiáng)度的變化及分布來檢測與評判材料或工件內(nèi)部各種宏觀或微觀缺陷的性質(zhì)、大小及分布情況，進(jìn)而判定被檢對象所處技術(shù)狀態(tài)，比如是否合格、剩余壽命等。

微焦點(diǎn)X射線源：為滿足高精度檢測要求，須配置微米級、納米級焦點(diǎn)尺寸X射線源，即微焦點(diǎn)X射線源，根據(jù)密封方式的不同，分為開管微焦點(diǎn)X射線源和閉管微焦點(diǎn)X射線源（開管式微焦點(diǎn)X射線源可實(shí)現(xiàn)更小的焦點(diǎn)尺寸、更高的射線錐角和更高的管電壓，但價格更貴、壽命更短），微焦點(diǎn) X 射線源主要應(yīng)用于集成電路、電子制造、新能源電池等精密制造領(lǐng)域，技術(shù)難度且國產(chǎn)化率低。 閉管 X 射線源中，陰極與陽極/ 靶都封閉在真空管內(nèi)。在使用時無需抽真空，閉管方式的 X 射線管高壓一般在 30kV-150kV 之間（靶功率75W），通常生命周期約為3年；而開放式X射線管高壓在30kV-225kV （靶功率25W）之間。前者常見于集成電路及電子制造和新能源電池領(lǐng)域，后者主要集中在集成電路領(lǐng)域。

大功率射線源：主要應(yīng)用于對于穿透能力要求更高同時兼顧一定精度要求的工業(yè)和醫(yī)療檢測領(lǐng)域，包括航天、汽車、船舶、鋼鐵、石油鉆探、工程機(jī)械、管道、地質(zhì)、考古、安檢、醫(yī)療等各行業(yè)，技術(shù)難度較高且國產(chǎn)化率低。

普通射線源：主要 應(yīng)用于對檢測精度要求不高的公共安全和異物檢測等領(lǐng)域，整體國產(chǎn)化率較高。

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