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YCL-13薄膜測厚儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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高校物理實(shí)驗(yàn)儀器,光譜應(yīng)用分析儀器

此款薄膜測厚儀根據(jù)多次反射光譜相干原理研發(fā)而成,本儀器可提供非接觸測量薄膜厚度,折射率, 吸收系數(shù)等,采用軟件版本,具有納米級精確測量和方便使用等優(yōu)點(diǎn);測量方便度和準(zhǔn)確度好于常用的光學(xué)橢偏儀。是鍍膜研究、光學(xué)鍍膜和半導(dǎo)體生產(chǎn)的測量研究儀器。

實(shí)驗(yàn)原理和內(nèi)容:

 

 

主要配置及參數(shù):

厚度范圍

20nm-50nm,只測膜厚;100nm-10μm同時測量膜厚和光學(xué)常數(shù)

準(zhǔn)確度

小于1nm或小于0.5%

重復(fù)性

0.1nm

波長范圍

380nm-1000nm

可測層數(shù)

1-4層

樣品尺寸

鍍膜區(qū)直徑大于1.2mm

測量速度

5s-60s

光斑直徑

1.2mm-10mm可調(diào)



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