CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS 三靶直流磁控濺射鍍膜儀
參考價 | ¥ 210000 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
- 品牌 CYKY
- 型號 CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/8/5 14:46:39
- 訪問次數(shù) 49
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磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
---|---|---|---|
應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有500W到1000W多種規(guī)格可選。
鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求;儀器標配的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進一步提高您的實驗效率。
三靶直流磁控濺射鍍膜儀應用范圍:
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù):
三靶直流電磁控濺射鍍膜儀 | ||
樣品臺 | 尺寸 | φ150mm |
控溫精度 | ±1℃ | |
轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
加熱溫度 | ≤750℃ | |
磁控靶槍 | 數(shù)量 | 2” x3 (1”,2”可選) |
靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
冷卻方式 | 循環(huán)水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Dia.325mm×600mm |
觀察窗口 | φ100mm | |
開啟方式 | 前開式 | |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
質(zhì)量流量計 | 2路;量程100sccm;100sccm(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路) | |
真空系統(tǒng) | 產(chǎn)品型號 | CY-GZK103-A |
分子泵 | CY-600 | |
抽氣接口 | CF160 | |
排氣接口 | KF40 | |
前極泵 | 旋片泵 | |
真空測量 | 復合真空計 | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | |
抽氣速率 | 分子泵:600L/S 旋片泵:1.1L/S 綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-3Pa | |
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源x2 射頻電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源500W 射頻電源500W | |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機尺寸 | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
整機重量 | 350kg | |
整機功率 | 6KW | |
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