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CY-Load Lock 矩形腔室磁控濺射鍍膜儀
參考價(jià) | ¥ 458000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱(chēng) 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 CYKY
- 型號(hào) CY-Load Lock
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/8/5 14:20:43
- 訪問(wèn)次數(shù) 54
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磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂?jī)x,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線(xiàn)切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長(zhǎng)爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 30萬(wàn)-50萬(wàn) |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件 |
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜沉積的高精度設(shè)備。其核心原理是通過(guò)在真空環(huán)境下,利用高能離子轟擊靶材,使靶材原子或分子濺射出來(lái)并沉積在基片表面,形成均勻的薄膜。該設(shè)備采用矩形腔室設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,且配備過(guò)渡艙,便于樣品的裝載和卸載,減少對(duì)主腔室真空環(huán)境的干擾,提高鍍膜效率和質(zhì)量。
過(guò)渡艙的設(shè)計(jì)使得設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),特別適用于需要高真空環(huán)境和多批次處理的鍍膜工藝.
磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域:
1.光學(xué)薄膜
用于制備增透膜、反射膜、濾光片等光學(xué)器件。
應(yīng)用于鏡頭、激光器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。
2.電子器件
用于半導(dǎo)體器件、集成電路、顯示面板(如OLED、LCD)的金屬或介質(zhì)薄膜沉積。
制備導(dǎo)電層、絕緣層或保護(hù)層。
3.裝飾與功能性涂層
用于手表、手機(jī)外殼等裝飾性鍍膜(如金屬光澤、彩色涂層)。
功能性涂層如耐磨、耐腐蝕、防指紋等。
4.能源領(lǐng)域
用于太陽(yáng)能電池、燃料電池的電極或催化層制備。
薄膜鋰電池的電極材料沉積。
5.科研領(lǐng)域
用于新材料開(kāi)發(fā)、薄膜性能研究(如磁性薄膜、超導(dǎo)薄膜等)。
磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
1.高效率
Load-Lock系統(tǒng)顯著縮短了樣品更換時(shí)間,提高了設(shè)備利用率。
2.高薄膜質(zhì)量
真空度高,污染少,薄膜純度高,附著力強(qiáng)。
均勻性好,適合大面積鍍膜。
3.多功能性
支持多種靶材(金屬、合金、陶瓷等)和反應(yīng)氣體,可制備多種功能薄膜。
兼容DC、RF等多種濺射模式。
4.自動(dòng)化與智能化
配備的控制系統(tǒng),支持參數(shù)預(yù)設(shè)、過(guò)程監(jiān)控和數(shù)據(jù)記錄。
操作簡(jiǎn)便,適合科研和工業(yè)生產(chǎn)。
5.可靠性高
設(shè)備結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,維護(hù)成本低,使用壽命長(zhǎng)。
6.環(huán)保與**
采用封閉式設(shè)計(jì),減少氣體泄漏和環(huán)境污染。
符合工業(yè)**標(biāo)準(zhǔn)。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱(chēng) | 矩形腔室磁控濺射鍍膜儀帶過(guò)渡艙 |
Load Lock腔體 | ? 300 *180 mm |
磁控DC濺射電源 | Max. 500W |
樣品臺(tái) | 8英寸樣品臺(tái)。可以實(shí)現(xiàn)樣品臺(tái)自動(dòng)上下升降(可調(diào)范圍不低于40mm),以及樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)(速度 0-60 RPM可調(diào)) |
流量計(jì) | 100 SCCM Ar/N2 |
靶槍數(shù)量 | 2個(gè)3英寸靶槍?zhuān)鋫洫?dú)立擋板 |
泵組抽速 | >7m3/h 干泵+250 L/S 分子泵 |
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