CY-MSZ210-I I -DCDC-SS ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀
參考價 | ¥ 198000 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 CYKY
- 型號 CY-MSZ210-I I -DCDC-SS
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/8/5 11:36:54
- 訪問次數(shù) 45
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磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實驗室真空PVD鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。
以下是單靶磁控鍍膜儀的典型實用案例,涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域,體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價值:
1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備
應(yīng)用場景:某高校光學(xué)實驗室利用Au靶(金靶)在玻璃基片上沉積納米級金薄膜,用于表面等離子體共振(SPR)傳感器研究。優(yōu)勢:
膜厚可控(10~200nm),均勻性高(±3%),確保光學(xué)性能穩(wěn)定。
真空環(huán)境避免氧化,獲得高純度納米金膜。
2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜(ITO)鍍膜
應(yīng)用場景:柔性電子企業(yè)使用ITO靶(氧化銦錫)在PET塑料基材上鍍制透明導(dǎo)電層,用于觸摸屏電極。優(yōu)勢:
低功率濺射(RF模式)避免基材熱損傷,膜層電阻≤100 Ω/sq。
桌面型設(shè)備節(jié)省空間,適合小批量試產(chǎn)。
3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層(TiN)
應(yīng)用場景:機械加工實驗室在高速鋼刀具表面鍍TiN(氮化鈦)涂層,提升耐磨性。工藝要點:
通入氮氣反應(yīng)濺射,形成金黃色TiN膜,硬度達(dá)2000 HV。
基片加熱至300°C,增強膜基結(jié)合力。
桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ210-I I -DCDC-SS | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配兩支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ210mm X260mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 304不銹鋼 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復(fù)合真空計,量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s | |
電源配置 | 電源數(shù)量 | 直流電源兩套 |
輸出功率 | 500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機功率 | 4kW | |
整機尺寸 | 550mm X 350mm X900mm |
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