在微納尺度表面表征領(lǐng)域，Sensofar S neox光學(xué)輪廓儀通過(guò)創(chuàng)新的多技術(shù)融合設(shè)計(jì)，為科研與工業(yè)應(yīng)用提供了可靠的測(cè)量解決方案。該設(shè)備整合了共聚焦顯微鏡、干涉儀和白光干涉儀三種測(cè)量模式，能夠適應(yīng)不同特性的樣品表面分析需求。

多模式測(cè)量技術(shù)特點(diǎn)：

• 共聚焦模式適用于高陡坡表面測(cè)量

• 干涉模式可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)分辨率

• 白光干涉模式提供較大視場(chǎng)的三維形貌重建

• 自動(dòng)模式識(shí)別功能可智能選擇優(yōu)良測(cè)量方案

典型應(yīng)用場(chǎng)景：

1. 微電子行業(yè)：晶圓、MEMS器件表面檢測(cè)

2. 精密加工：刀具、模具表面質(zhì)量評(píng)估

3. 材料研究：涂層、薄膜表面形貌分析

4. 生物醫(yī)學(xué)：植入物表面特性表征

智能化操作體驗(yàn)：

• 配備直觀的測(cè)量分析軟件

• 支持自動(dòng)化測(cè)量流程

• 提供全面的表面參數(shù)分析功能

• 可定制化測(cè)量方案滿足特殊需求

Sensofar S neox憑借其靈活的多技術(shù)集成設(shè)計(jì)，為表面形貌測(cè)量提供了更多可能性。如需了解設(shè)備詳細(xì)技術(shù)參數(shù)或獲取應(yīng)用支持，歡迎聯(lián)系Sensofar專(zhuān)業(yè)技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)。