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晶圓傳輸平臺(tái)是半導(dǎo)體工藝設(shè)備的構(gòu)成部分,主要實(shí)現(xiàn)晶圓在潔凈環(huán)境
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加熱臺(tái)主要用于CY-VTC-600-2HD雙靶、CY-VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
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帶紅外線(xiàn)加熱的臺(tái)式提拉機(jī)旨在盡可能減少操作員的參與,以便微控制
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凈化型勻膠機(jī)廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等,例如對(duì)大型晶圓、芯
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臺(tái)式靜電紡絲和電噴霧裝置是一款高壓靜電紡絲機(jī),專(zhuān)門(mén)用于制作納米
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本設(shè)備為傾斜樣品臺(tái)式單靶磁控鍍膜儀,樣品臺(tái)與靶面的角度可調(diào),可
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大多數(shù)廢物測(cè)量都在非均勻的情況下進(jìn)行,如果活度在整個(gè)筒中的分布
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上海旋文機(jī)電設(shè)備有限公司