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等離子去膠機(jī)PX 2549
CIF Spin Coater勻膠機(jī)PX 3883
MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂?jī)xPX 3883
NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī)PX 2549
研發(fā)用等離子去膠機(jī)PX 2549
Q150微波等離子去膠清洗機(jī)PX 2549
ASTRO96全自動(dòng)微波等離子清洗系統(tǒng)PX 2549
AL76C立式微波等離子去膠清洗機(jī)PX 2549
AL76微波等離子去膠清洗機(jī)PX 2549
AL18微波等離子去膠清洗機(jī)PX 2549
LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)PX 2549
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)PX 2549
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)PX 2549
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)PX 2549
NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 2549
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 2549
NPC-3500(A)全自動(dòng)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 2549
NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 2549
NPC-3000等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 2549
HAD-YY便攜式廢油、煤焦油、原油含水率測(cè)試儀PX 4797
HRVB-DVSP煙塵檢測(cè)儀PX 4797
MicroWriter ML3直寫光刻機(jī)PX 1705
MKW-200直寫光刻機(jī)/無掩膜光刻機(jī)PX 1705
SG6-ELK業(yè)型便攜式溶氧儀PX 4797
HAD-290多位真空冷鑲嵌機(jī)/PX 4797
HAD-CB真空冷鑲嵌機(jī)/PX 4797
HAD-4AD滴膠機(jī),勻膠機(jī),烤膠機(jī)PX 4797
HAKW-4A勻膠機(jī)PX 4797
HAD-C128浸漬提拉涂敷機(jī)PX 4797
HAD2008C1便攜式數(shù)字渦電導(dǎo)率儀PX 4797
HAD-ZD2數(shù)顯旋渦式振篩機(jī)PX 4797
程控勻膠機(jī)PX 3354
智能勻膠機(jī)PX 3354
JW-A5勻膠機(jī)高精密程控觸屏勻膠機(jī)旋涂?jī)xPX 3354
小型勻膠機(jī)PX 3354
程控觸屏勻膠機(jī)PX 3354
SPIN MASTER 51凱美特程控勻膠機(jī)PX 0
KW-4A-CE凱美特抗干擾勻膠機(jī)PX 0
ACA系列科研版無掩模光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無掩模光刻機(jī)PX 0
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
勻膠機(jī)
有掩膜光刻機(jī)
旋轉(zhuǎn)涂覆儀勻膠機(jī)
全自動(dòng)多層鈣鈦礦旋涂?jī)x勻膠機(jī)
防腐型旋轉(zhuǎn)涂覆儀勻膠機(jī)
小型旋轉(zhuǎn)涂覆儀勻膠機(jī)
8英寸晶圓烤膠機(jī)
光刻膠烤膠機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
凈化型4寸勻膠機(jī)旋涂?jī)x
自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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