電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是為等離子化學(xué)蝕刻系統(tǒng)應(yīng)用設(shè)計(jì)的反應(yīng)離子蝕刻RIE和ICPCVD系統(tǒng),將反應(yīng)離子刻蝕RIE和電感耦合等離子體刻蝕ICP兩種等離子...
晶圓真空氧化退火熱處理系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
這款半導(dǎo)體晶圓熱處理系統(tǒng)是為半導(dǎo)體晶圓在可控氣體、真空、氧化或還原氣氛中的晶圓高溫處理系統(tǒng)，可對(duì)晶圓真空退火，氧氣退火處理。 鋁室的特殊設(shè)計(jì)允許在*溫度（高達(dá)1...
晶圓熱退火爐 參考價(jià)：面議
這款晶圓熱退火爐是半導(dǎo)體晶片惰性氣氛快速熱退火系統(tǒng),適合晶圓的最大直徑為100mm,晶圓通過上部快速檢修門手動(dòng)裝入腔室，并放置在熱補(bǔ)償石墨臺(tái)上。加熱器系統(tǒng)基于線...
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應(yīng)用提供緊湊、經(jīng)濟(jì)、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案。
物理氣相沉積平臺(tái)PVD,濺射,電子束蒸發(fā) 參考價(jià)：面議
多功能物理氣相沉積平臺(tái)可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng)。允許更大的腔室投擲距離，并能夠適應(yīng)更多工藝增強(qiáng)。
磁控濺射沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實(shí)用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究。磁控濺射系統(tǒng)可定制。該腔室可設(shè)...
離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜 參考價(jià)：面議
離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實(shí)現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜。然后，來自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng),EB-4P電子shu沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),真空沉積鍍膜 參考價(jià)：面議
真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)CRTE & THE是具成本效益的真空沉積鍍膜技術(shù)之一,熱蒸發(fā)在沉積有機(jī)材料如OLED（有機(jī)發(fā)光二極管）方面有許多應(yīng)用。
電子束-電阻熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電子束-電阻熱蒸發(fā)復(fù)合鍍膜系統(tǒng)集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發(fā)鍍膜沉積功能。電拋光不銹鋼腔室（D形盒）
臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)為是模塊化的PVD系統(tǒng),為您的研究和實(shí)施應(yīng)用提供了多種沉積選項(xiàng)。可裝配電子束蒸發(fā)源E-beam,ORCA低溫蒸發(fā)源,熱蒸發(fā)源,磁控濺射等。
III族氮化物分子束外延系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
這款I(lǐng)II族氮化物分子束外延系統(tǒng)專業(yè)為A3N材料生長設(shè)計(jì)的MBE設(shè)備,適合氨氣高溫下制備生長A3N半導(dǎo)體材料,提供非常廣泛的可用生長參數(shù)（有效氮通量、襯底溫度、...
三腔室分子束外延MBE系統(tǒng) 參考價(jià)：950000
三腔室分子束外延系統(tǒng)是帶有三個(gè)MBE分子束外延生長腔室的異質(zhì)結(jié)材料MBE生長設(shè)備,可用于在高達(dá)∅100mm的襯底上以及三個(gè)2英寸以上襯底上一次精確生...
混合異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延系統(tǒng)MBE 參考價(jià)：1200000
混合異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延系統(tǒng)具有雙反應(yīng)器,非常適合А3В5和А2В6異質(zhì)結(jié)構(gòu)生長應(yīng)用,也可用于epi晶圓研發(fā)和試生產(chǎn)。
超高真空激光分子束外延團(tuán)簇系統(tǒng) 參考價(jià)：1500000
超高真空激光分子束外延團(tuán)簇系統(tǒng) laser cluster將不同的薄膜和分析技術(shù)結(jié)合成一個(gè)強(qiáng)大的系統(tǒng)。***多可將七個(gè)單獨(dú)的腔室連接到中央傳輸模塊，從而在超高真...
總光通量測(cè)量儀 參考價(jià)：150000
這款總光通量測(cè)量儀（Total Luminous Flux measurement system） 是當(dāng)今世界上結(jié)構(gòu)Z簡單Z為精確的光通量測(cè)試儀，由美國公司設(shè)計(jì)...
光源頻閃分析儀 參考價(jià)：150000
光源頻閃分析儀是為燈具頻閃分析設(shè)計(jì)的燈具頻閃測(cè)量儀，幫助光源制造商深入了解光源頻閃問題。
光生物安全性測(cè)試儀 參考價(jià)：面議
光生物安全性測(cè)試儀是為燈具光源的光生物安全性測(cè)量分析設(shè)計(jì)的光生物安全性測(cè)量儀器,幫助制造商或評(píng)估機(jī)構(gòu)更快地獲得燈具光源的光生物安全性數(shù)據(jù)。
光源藍(lán)光危害測(cè)試儀 參考價(jià)：150000
光源藍(lán)光危害測(cè)試儀ISR300-PSL是為光源燈具藍(lán)光危害評(píng)估測(cè)試設(shè)計(jì)的光譜輻照儀器,幫助燈具制造商和研發(fā)機(jī)構(gòu)快速測(cè)試評(píng)估光源燈具藍(lán)光危害性。
太赫茲光譜儀 參考價(jià)：面議
這款太赫茲光譜儀采用780nm飛秒激光器和太赫茲天線（太赫茲發(fā)射器和太赫茲探測(cè)器）組成,適合太赫茲時(shí)域光譜研究。
太赫茲時(shí)域光譜儀 參考價(jià)：300000
太赫茲時(shí)域光譜儀是模塊化的太赫茲時(shí)域光譜系統(tǒng),廣泛用于太赫茲科學(xué)研究和太赫茲工業(yè)檢測(cè)。
高亮度均勻積分球 參考價(jià)：50000
高亮度均勻積分球是專業(yè)為光通量測(cè)量和光譜輻射測(cè)量應(yīng)用設(shè)計(jì)的多功能積分球系列,采用*的高純度BaSO4涂層工藝確保長時(shí)間反射均勻而無顏色變化。
大型積分球,進(jìn)口大口徑積分qiu 參考價(jià)：50000
這款大型積分球Integrating Sphere直徑為2米,是理想的大口徑積分球, 非常適合全光通量測(cè)量,總光通量測(cè)量（total luminous flux...
輻射定標(biāo)均勻光源 參考價(jià)：面議
輻射定標(biāo)均勻光源是專業(yè)為CCD圖像探測(cè)器校準(zhǔn)等應(yīng)用設(shè)計(jì)的輻射均勻性光源,可提供可變但恒定色溫（CCT）、空間均勻輻射（亮度）源。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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