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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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Intelli-Ray600Uvitron紫外固化面光源Intelli-Ray系列 簡單介紹：Uvitron紫外固化面光源Intelli-Ray系列紫外固化設(shè)備。不像其他競爭系統(tǒng)，Inli-Ray600集成所有系統(tǒng)組件到一個(gè)很小的光源中，非常容易安裝在工廠的任何地方，不需要任何獨(dú)立電源或是控制盒。紫外燈/UV燈只要安裝光源，連接交流電源線，就可以開始定時(shí)紫外固化啦！紫外燈/UV燈設(shè)備帶有液晶顯示和數(shù)字鍵盤，輕松實(shí)現(xiàn)編程和監(jiān)控固化操作。并有方便的手柄和可滑行調(diào)節(jié)高度的支架。 產(chǎn)品型號：Intelli-Ray600 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機(jī) 簡單介紹：MYCRO*美國恩科優(yōu)NXQ Mask Alignment光刻機(jī)，是quanqiu*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn)，quanqiu售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號：NXQ4000系列 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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NXQ800-6NXQ光刻機(jī) 簡單介紹：MYCRO*美國NXQ光刻機(jī)（Mask Aligner），是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn)，已售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號：NXQ800-6 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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Mini C 3850Carver小型壓片機(jī) 簡單介紹：Carver手動(dòng)液壓壓片機(jī)是非常堅(jiān)固可靠的，并以特別耐用而著稱。壓力分為12噸、25噸和30噸三種。主要用于紅外分析儀、X射線及X熒光分析儀等樣品的壓制，模具直徑包括31mm、35mm和40mm。 產(chǎn)品型號：Mini C 3850 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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AutoPellet 4387Carver自動(dòng)化壓實(shí)密度儀 簡單介紹：Carver自動(dòng)化壓實(shí)密度儀，是為了滿足更高精度的實(shí)驗(yàn)要求，在原有設(shè)備的基礎(chǔ)上研制的。主要適用于橡膠和塑料的壓制成型，及層疊壓制及測試。 產(chǎn)品型號：AutoPellet 4387 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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Intelli-Ray400Uvitron紫外固化箱Intelli-Ray系列 簡單介紹：Uvitron紫外固化箱Intelli-Ray系列 紫外固化箱，又名紫外光固化箱、紫外固化機(jī)、紫外固化光源，還有類式紫外固化點(diǎn)光源。 I-RAY 是一款緊湊型智能控制大面積紫外固化設(shè)備。 產(chǎn)品型號：Intelli-Ray400 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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Matrix 1201Kinematic 切膜機(jī) 簡單介紹：Kinematic 切膜機(jī)-M1201是用于蛋白質(zhì)印跡（Western Blot）及其類似應(yīng)用的理想切膜設(shè)備。切膜機(jī)/切膜儀具有一體式的結(jié)構(gòu)，切膜系統(tǒng)方便快速清洗或調(diào)整切條寬度。 產(chǎn)品型號：Matrix 1201 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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0608Cargille光學(xué)凝膠 簡單介紹：Cargille光學(xué)凝膠代碼0607和0608有兩個(gè)主要用途： 首先,作為一個(gè)光學(xué)耦合光纖和光學(xué)部件； 第二個(gè)主要用途就是一個(gè)剝離凝膠模式。 產(chǎn)品型號：0608 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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SCE-604Anatech等離子灰化機(jī) 簡單介紹：MYCRO的SCE-604系列感應(yīng)耦合等離子體（ICP）等離子體系統(tǒng)是用于Anatech等離子灰化機(jī)工藝的Z有效儀器。適用設(shè)備如：SCE-104, 106, 108。等體灰化1-4個(gè)樣本的系統(tǒng)（4個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)艙），每個(gè)石英反應(yīng)艙是獨(dú)立封閉，從而避免交叉污染。 產(chǎn)品型號：SCE-604 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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SCE-110Anatech ICP等離子刻蝕機(jī) 簡單介紹：MYCRO的SCE-110系列Anatech ICP等離子刻蝕機(jī)是用于等離子體灰化工藝的Z有效儀器。SCE-110等離子灰化機(jī)用于殘留無機(jī)物的掃描電鏡（SEM）和或化學(xué)分析之前的有機(jī)物去除。適用設(shè)備如：SCE-104, 106, 108。 產(chǎn)品型號：SCE-110 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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SCE-1414Anatech 鋁制等離子表面處理機(jī) 簡單介紹：MYCRO的SCE系列鋁制反應(yīng)艙等離子體系統(tǒng)是該領(lǐng)域的產(chǎn)品。我們的Anatech 鋁制等離子表面處理機(jī)無論是做研發(fā)還是大規(guī)模生產(chǎn)，總有一款SCE系列系統(tǒng)可以滿足需要。就設(shè)備設(shè)計(jì)、質(zhì)量或是交貨靈活性、經(jīng)濟(jì)型等離子體系統(tǒng)等方面而言，沒有公司與之相提并論。 產(chǎn)品型號：SCE-1414 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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PDC-32G-2Harrick小型等離子刻蝕機(jī) 簡單介紹：Harrick小型等離子刻蝕機(jī)是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 產(chǎn)品型號：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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PDC-002Harrick 氧等離子表面處理儀 簡單介紹：Harrick 氧等離子表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉。 產(chǎn)品型號：PDC-002 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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PDC-002-HPHarrick小型等離子清洗機(jī)HP 簡單介紹：Harrick小型等離子清洗機(jī)HP是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 產(chǎn)品型號：PDC-002-HP 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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EHP-1000-2EMS加熱板/烤膠機(jī) 簡單介紹：EMS加熱板/烤膠機(jī)（英文名：Hot Plate）又名烘膠臺(tái)，烤膠臺(tái)，加熱平臺(tái)，烤膠板，熱臺(tái)，熱板等用途可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅(jiān)膜，磨片粘片熔臘等，它采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強(qiáng)了設(shè)備的安全性。 產(chǎn)品型號：EHP-1000-2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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nD:1.300-1.780折射率匹配液 簡單介紹：Cargille Laboratories, Inc. 自1942年創(chuàng)立以來一直處于高速成長，今天已成為世界上提供折射率指數(shù)油Z大Z有影響力的公司。 美國的Cargille 折射率匹配液已經(jīng)成為各行各業(yè)實(shí)驗(yàn)室用來鑒定的標(biāo)準(zhǔn)工具，從礦質(zhì)確認(rèn)到生產(chǎn)質(zhì)量控制，新的更廣的應(yīng)用在化學(xué)，工程，醫(yī)學(xué)，醫(yī)療，光學(xué)，等領(lǐng)域不斷被發(fā)現(xiàn)。 產(chǎn)品型號：nD:1.300-1.780 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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PDC-FMG-2Harrick 氣體流量控制器 簡單介紹：Harrick 氣體流量控制器主要應(yīng)用于處理氣體的精密控制、在等離子清洗過程中氣體流混合和真空艙內(nèi)壓力監(jiān)控。 產(chǎn)品型號：PDC-FMG-2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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PDC-32G-2Harrick等離子清洗機(jī) 簡單介紹：Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉. 產(chǎn)品型號：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機(jī) 簡單介紹：EDC濕法刻蝕顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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WS-650HZ-23NPPBLaurell勻膠機(jī)650-23NPPB 簡單介紹：Laurell勻膠機(jī)650-23NPPB系列特色： ◆ 科研制備理想的勻膠機(jī)； ◆ 勻膠機(jī)由NPP或Teflon材質(zhì)構(gòu)造； ◆ 勻膠機(jī)分為150毫米，200毫米和300毫米三種腔體大??； ◆ 勻膠機(jī)可選擇臺(tái)式，立式和特殊環(huán)境內(nèi)置式不同外形； ◆ 勻膠機(jī)的Z大轉(zhuǎn)速可達(dá)10000RPM； ◆ 易編程的數(shù)碼控制器（400/500型控制器）； ◆ 可升級成為自動(dòng)滴膠型勻膠機(jī)； 產(chǎn)品型號：WS-650HZ-23NPPB 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-06-05 |
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